CAS 1066-77-9

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)ZINN

Beschreibung:

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)ZINN, mit der CAS-Nummer 1066-77-9, ist eine Organotinverbindung, die durch ihr tetravalentes Zinnatom gekennzeichnet ist, das an vier Dimethylamino-Gruppen gebunden ist. Diese Verbindung erscheint typischerweise als farblose bis blassgelbe Flüssigkeit und ist bekannt für ihre relativ geringe Flüchtigkeit und hohe Reaktivität. Sie ist in organischen Lösungsmitteln löslich, was sie in verschiedenen chemischen Anwendungen nützlich macht. TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)ZINN wird hauptsächlich im Bereich der Organometallchemie und als Vorläufer in der Synthese von zinnbasierten Materialien verwendet, insbesondere bei der Herstellung von Dünnfilmen und Beschichtungen. Ihre chemische Struktur verleiht ihr einzigartige Eigenschaften, einschließlich potenzieller katalytischer Aktivität und der Fähigkeit, Komplexe mit anderen Liganden zu bilden. Es ist jedoch wichtig, diese Verbindung mit Vorsicht zu behandeln, da sie toxisch ist und potenzielle Umweltauswirkungen hat, da Organotinverbindungen schädliche Auswirkungen auf aquatische Lebewesen und Ökosysteme haben können. Angemessene Sicherheitsmaßnahmen und Vorschriften sollten beachtet werden, wenn mit dieser Substanz in Labor- oder Industrieumgebungen gearbeitet wird.

Formel: C₈H₂₄N₄Sn

InChl: InChI=1/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

SMILES: C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Sn]

Synonyme:

• Octamethylstannanetetraamine
• Tin (Iv) Dimethylamide
• Tetrakis-(Dimethylamino-)-Stannane
• Tetrakis(dimethylamine)tin
• Tetrakis(dimethylamido)tin(IV)
• Tin(4+) Tetrakis(Dimethylazanide)

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

CAS: 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

Formel: SnN(CH₃)₂

Reinheit: (99.99%-Sn)

Farbe und Form: colorless to pale-yellow liq.

Molekulargewicht: 295.01

Ref: 08-50-1815

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TIN

CAS: 1066-77-9

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tetrakis(dimethylamino)tin; Octamethylstannanetetraamine; Tin IV dimethylamide
Reacts with tris(aminoalkyl)amines, yielding azastannatranes

Formel: C₈H₂₄N₄Sn

Farbe und Form: Pale Yellow Liquid

Molekulargewicht: 294.99

Ref: 3H-SNT7350

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS: 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Formel: SnN(CH₃)₂

Reinheit: (99.99% Sn)

Farbe und Form: colorless to pale-yellow liq.

Molekulargewicht: 295.01

Ref: 08-98-4050