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CAS 12039-79-1

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Tantal-Silicid (TaSi2)

Beschreibung:
Tantal-Silicid (TaSi2) ist eine refraktäre Verbindung, die für ihren hohen Schmelzpunkt und ihre ausgezeichnete thermische Stabilität bekannt ist, was sie für Hochtemperaturanwendungen geeignet macht. Sie zeigt typischerweise einen metallischen Glanz und ist durch ihre Härte und Sprödigkeit gekennzeichnet. TaSi2 hat eine tetragonale Kristallstruktur und wird häufig in der Halbleiterindustrie verwendet, insbesondere bei der Herstellung von integrierten Schaltungen, aufgrund seiner günstigen elektrischen Leitfähigkeit und Oxidationsbeständigkeit. Darüber hinaus dient es als Diffusionsbarriere in metallischen Verbindungen. Die Verbindung ist auch für ihre guten mechanischen Eigenschaften bekannt, zu denen hohe Festigkeit und Verschleißfestigkeit gehören, was sie in der Luft- und Raumfahrt sowie in anderen Hochleistungsanwendungen wertvoll macht. Tantalum-Silicid kann durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich Festkörperreaktionen und chemischer Dampfabscheidung. Der Umgang erfordert jedoch Vorsicht aufgrund seiner potenziellen Reaktivität mit starken Oxidationsmitteln und der Notwendigkeit geeigneter Sicherheitsmaßnahmen in industriellen Umgebungen. Insgesamt ist TaSi2 ein bedeutendes Material in fortschrittlichen Technologiesektoren, insbesondere in der Elektronik und Materialwissenschaft.
Formel:Si2Ta
InChl:InChI=1/2H3Si.Ta/h2*1H3;/rH6Si2Ta/c1-3-2/h1-2H3
InChI Key:InChIKey=MANYRMJQFFSZKJ-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[Ta](#[Si])#[Si]
Synonyme:
  • Disiliciure de tantale
  • Disiliciuro De Tantalo
  • Tantaldisilicid
  • Tantalum Disilicide
  • Tantalum disilicide (TaSi2)
  • Tantalum disilicide (TaSi<sub>2</sub>)
  • Tantalum silicide
  • Tantalum silicide (TaSi<sub>2</sub>)
  • Tantalum silicide (99.5%-Ta)
  • Tantalum silicide (TaSi2)
  • Tantalumsilicidemeshgraypowderavgmicronsorle
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