Germanium nitride (Ge3N4) is a binary compound composed of germanium and nitrogen, characterized by its semiconductor properties and potential applications in electronics and optoelectronics. It typically appears as a dark brown or black powder and exhibits a high thermal stability, making it suitable for high-temperature applications. Germanium nitride is known for its wide bandgap, which allows it to function effectively in various electronic devices. The compound is also notable for its hardness and mechanical strength, which can be advantageous in protective coatings. Additionally, germanium nitride can be synthesized through various methods, including chemical vapor deposition and solid-state reactions. Its reactivity with moisture and air necessitates careful handling and storage to prevent degradation. Overall, germanium nitride is a material of interest in advanced technological applications, particularly in the fields of semiconductors and materials science.

Germanium nitride (Ge3N4) does not occur in nature as a compound. It can be produced by reacting germanium with ammonia. It can be applied as a passivation layers to germanium-based radiation detectors. Germanium Nitride is reported to be used as a water-insoluble gate dielectric film in metal oxide semiconductor field effect transistor with germanium channel.
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It is used in etchant formulation, which was originally developed for silicon oxynitride.
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Germanium nitride

Germaniumnitrid (Ge3N4) ist eine binäre Verbindung, die aus Germanium und Stickstoff besteht und durch ihre Halbleitereigenschaften sowie potenzielle Anwendungen in der Elektronik und Optoelektronik gekennzeichnet ist. Sie erscheint typischerweise als dunkelbraunes oder schwarzes Pulver und weist eine hohe thermische Stabilität auf, was sie für Hochtemperaturanwendungen geeignet macht. Germaniumnitrid ist bekannt für seine breite Bandlücke, die es ihm ermöglicht, in verschiedenen elektronischen Geräten effektiv zu funktionieren. Die Verbindung ist auch bemerkenswert für ihre Härte und mechanische Festigkeit, was in Schutzbeschichtungen von Vorteil sein kann. Darüber hinaus kann Germaniumnitrid durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich chemischer Dampfabscheidung und Festkörperreaktionen. Ihre Reaktivität mit Feuchtigkeit und Luft erfordert eine sorgfältige Handhabung und Lagerung, um eine Degradation zu verhindern. Insgesamt ist Germaniumnitrid ein Material von Interesse in fortschrittlichen technologischen Anwendungen, insbesondere in den Bereichen Halbleiter und Materialwissenschaft.

12065-36-0: Germaniumnitrid (Ge3N4) ist eine binäre Verbindung, die aus Germanium und Stickstoff besteht und durch ihre Halbleitereigenschaften sowie potenzielle Anwendungen in der Elektronik und Optoelektronik gekennzeichnet ist. Sie erscheint typischerweise als dunkelbraunes oder schwarzes Pulver und weist eine hohe thermische Stabilität auf, was sie für Hochtemperaturanwendungen geeignet macht. Germaniumnitrid ist bekannt für seine breite Bandlücke, die es ihm ermöglicht, in verschiedenen elektronischen Geräten effektiv zu funktionieren. Die Verbindung ist auch bemerkenswert für ihre Härte und mechanische Festigkeit, was in Schutzbeschichtungen von Vorteil sein kann. Darüber hinaus kann Germaniumnitrid durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich chemischer Dampfabscheidung und Festkörperreaktionen. Ihre Reaktivität mit Feuchtigkeit und Luft erfordert eine sorgfältige Handhabung und Lagerung, um eine Degradation zu verhindern. Insgesamt ist Germaniumnitrid ein Material von Interesse in fortschrittlichen technologischen Anwendungen, insbesondere in den Bereichen Halbleiter und Materialwissenschaft.

CAS 12065-36-0

Germaniumnitrid