Nickel silicide (NiSi2) is a binary compound formed from nickel and silicon, characterized by its metallic properties and semiconductor behavior. It typically appears as a gray or black solid and is known for its high thermal stability and good electrical conductivity, making it valuable in electronic applications, particularly in the fabrication of integrated circuits and as a contact material in semiconductor devices. NiSi2 has a relatively high melting point and exhibits a crystalline structure, which contributes to its robustness under various conditions. The compound is also notable for its ability to form at the interface of nickel and silicon during thermal processes, leading to the formation of a silicide layer that enhances the performance of electronic components. Additionally, nickel silicide can be synthesized through various methods, including solid-state reactions and chemical vapor deposition. Its properties make it an important material in the field of microelectronics and nanotechnology, where precise control over electrical characteristics is essential.

Nickel silicide (NiSi2)

Nickelsilicid (NiSi2) ist eine binäre Verbindung, die aus Nickel und Silizium besteht und durch ihre metallischen Eigenschaften und ihr Verhalten als Halbleiter gekennzeichnet ist. Sie erscheint typischerweise als grauer oder schwarzer Feststoff und ist bekannt für ihre hohe thermische Stabilität und gute elektrische Leitfähigkeit, was sie in elektronischen Anwendungen, insbesondere bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und als Kontaktmaterial in Halbleiterbauelementen, wertvoll macht. NiSi2 hat einen relativ hohen Schmelzpunkt und weist eine kristalline Struktur auf, die zu ihrer Robustheit unter verschiedenen Bedingungen beiträgt. Die Verbindung ist auch bemerkenswert für ihre Fähigkeit, an der Grenzfläche von Nickel und Silizium während thermischer Prozesse zu entstehen, was zur Bildung einer Silizid-Schicht führt, die die Leistung elektronischer Komponenten verbessert. Darüber hinaus kann Nickelsilizid durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich Festkörperreaktionen und chemischer Dampfabscheidung. Seine Eigenschaften machen es zu einem wichtigen Material im Bereich der Mikroelektronik und Nanotechnologie, wo eine präzise Kontrolle über die elektrischen Eigenschaften entscheidend ist.

12201-89-7: Nickelsilicid (NiSi2) ist eine binäre Verbindung, die aus Nickel und Silizium besteht und durch ihre metallischen Eigenschaften und ihr Verhalten als Halbleiter gekennzeichnet ist. Sie erscheint typischerweise als grauer oder schwarzer Feststoff und ist bekannt für ihre hohe thermische Stabilität und gute elektrische Leitfähigkeit, was sie in elektronischen Anwendungen, insbesondere bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und als Kontaktmaterial in Halbleiterbauelementen, wertvoll macht. NiSi2 hat einen relativ hohen Schmelzpunkt und weist eine kristalline Struktur auf, die zu ihrer Robustheit unter verschiedenen Bedingungen beiträgt. Die Verbindung ist auch bemerkenswert für ihre Fähigkeit, an der Grenzfläche von Nickel und Silizium während thermischer Prozesse zu entstehen, was zur Bildung einer Silizid-Schicht führt, die die Leistung elektronischer Komponenten verbessert. Darüber hinaus kann Nickelsilizid durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich Festkörperreaktionen und chemischer Dampfabscheidung. Seine Eigenschaften machen es zu einem wichtigen Material im Bereich der Mikroelektronik und Nanotechnologie, wo eine präzise Kontrolle über die elektrischen Eigenschaften entscheidend ist.

CAS 12201-89-7

Nickelsilicid (NiSi2)

Nickel silicide, 99%

Ref: 7W-GX5979