Tantalum hydride (TaH) is a chemical compound formed between tantalum and hydrogen. It typically appears as a solid and is characterized by its metallic properties, which include high density and hardness. Tantalum hydride is known for its stability and resistance to oxidation, making it suitable for high-temperature applications. The compound can be synthesized through various methods, including the reaction of tantalum with hydrogen gas at elevated temperatures. Tantalum hydride exhibits interesting electronic properties, which can be attributed to the presence of tantalum's d-electrons. It is often studied for its potential applications in materials science, particularly in the development of superconductors and advanced electronic devices. Additionally, TaH can serve as a precursor for the production of tantalum metal and other tantalum-based compounds. However, handling tantalum hydride requires caution, as it can react with moisture and air, leading to the formation of hazardous byproducts. Overall, tantalum hydride is a compound of interest in both academic research and industrial applications due to its unique properties.

Tantalum hydride (TaH)

Tantalhydrid (TaH) ist eine chemische Verbindung, die zwischen Tantal und Wasserstoff gebildet wird. Sie erscheint typischerweise als Feststoff und ist durch ihre metallischen Eigenschaften gekennzeichnet, zu denen hohe Dichte und Härte gehören. Tantalhydrid ist bekannt für seine Stabilität und Beständigkeit gegen Oxidation, was es für Hochtemperaturanwendungen geeignet macht. Die Verbindung kann durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich der Reaktion von Tantal mit Wasserstoffgas bei erhöhten Temperaturen. Tantalhydrid zeigt interessante elektronische Eigenschaften, die auf die Anwesenheit der d-Elektronen von Tantal zurückzuführen sind. Es wird häufig wegen seiner potenziellen Anwendungen in der Materialwissenschaft untersucht, insbesondere bei der Entwicklung von Supraleitern und fortschrittlichen elektronischen Geräten. Darüber hinaus kann TaH als Vorläufer für die Herstellung von Tantalmetall und anderen Tantal-basierten Verbindungen dienen. Der Umgang mit Tantalhydrid erfordert jedoch Vorsicht, da es mit Feuchtigkeit und Luft reagieren kann, was zur Bildung gefährlicher Nebenprodukte führt. Insgesamt ist Tantalhydrid eine Verbindung von Interesse sowohl in der akademischen Forschung als auch in industriellen Anwendungen aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften.

13981-95-8: Tantalhydrid (TaH) ist eine chemische Verbindung, die zwischen Tantal und Wasserstoff gebildet wird. Sie erscheint typischerweise als Feststoff und ist durch ihre metallischen Eigenschaften gekennzeichnet, zu denen hohe Dichte und Härte gehören. Tantalhydrid ist bekannt für seine Stabilität und Beständigkeit gegen Oxidation, was es für Hochtemperaturanwendungen geeignet macht. Die Verbindung kann durch verschiedene Methoden synthetisiert werden, einschließlich der Reaktion von Tantal mit Wasserstoffgas bei erhöhten Temperaturen. Tantalhydrid zeigt interessante elektronische Eigenschaften, die auf die Anwesenheit der d-Elektronen von Tantal zurückzuführen sind. Es wird häufig wegen seiner potenziellen Anwendungen in der Materialwissenschaft untersucht, insbesondere bei der Entwicklung von Supraleitern und fortschrittlichen elektronischen Geräten. Darüber hinaus kann TaH als Vorläufer für die Herstellung von Tantalmetall und anderen Tantal-basierten Verbindungen dienen. Der Umgang mit Tantalhydrid erfordert jedoch Vorsicht, da es mit Feuchtigkeit und Luft reagieren kann, was zur Bildung gefährlicher Nebenprodukte führt. Insgesamt ist Tantalhydrid eine Verbindung von Interesse sowohl in der akademischen Forschung als auch in industriellen Anwendungen aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften.

CAS 13981-95-8

Tantalhydrid (TaH)

Tantalum hydride

Ref: 54-IN3415