CAS 15112-89-7
:N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilantriamin
Beschreibung:
N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilantriamin, mit der CAS-Nummer 15112-89-7, ist eine organosiliciumverbindung, die durch ihre einzigartige Struktur gekennzeichnet ist, die ein Siliziumatom umfasst, das an drei Stickstoffatome gebunden ist, von denen jedes weiter an Methylgruppen gebunden ist. Diese Verbindung ist typischerweise eine farblose bis blassgelbe Flüssigkeit und ist bekannt für ihre hohe thermische Stabilität und geringe Flüchtigkeit. Sie zeigt Eigenschaften wie Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln und potenzielle Reaktivität mit verschiedenen Elektrophilen aufgrund der Anwesenheit von Stickstoffatomen. Hexamethylsilantriamin wird häufig in der Synthese von Silikonpolymeren und als Ligand in der Koordinationschemie verwendet. Ihre Fähigkeit, stabile Komplexe mit Metallen zu bilden, macht sie in der Katalyse und Materialwissenschaft wertvoll. Darüber hinaus kann sie Anwendungen im Bereich der Nanotechnologie und als Vorstufe bei der Herstellung von silikonbasierten Materialien haben. Sicherheitsvorkehrungen sollten beim Umgang mit dieser Verbindung beachtet werden, da sie gesundheitliche Risiken darstellen kann, wenn sie eingeatmet oder eingenommen wird.
Formel:C6H19N3Si
InChl:InChI=1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3
InChI Key:InChIKey=TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[SiH](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
Synonyme:- Brn 1901643
- Ls 1460
- N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
- Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
- Tri(dimethylamino)silane
- Tris(Dimethylamino)Silyl
- [Bis(dimethylamino)silyl]dimethylamine
- Tris(dimethylamino)silane
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5 Produkte.
Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
CAS:<p>Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM</p>Formel:(CH3)2NSiHReinheit:(99.999%-Si)Farbe und Form:colorless to light yellow liq.Molekulargewicht:161.32Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
CAS:Formel:C6H19N3SiReinheit:95%Farbe und Form:LiquidMolekulargewicht:161.3207Tris(dimethylamino)silane
CAS:Tris(dimethylamino)silaneReinheit:99%, 99.999%-SiMolekulargewicht:161.32g/molTRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE
CAS:<p>ALD Material<br>Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.<br>Tris(dimethylamino)silane; Tris(dimethylamido)silylhydride; N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine<br>AIR TRANSPORT FORBIDDENVapor pressure, 4 °C: 1 6 mmHydrosilylates olefins in presence of Rh2Cl2(CO)4Reacts with ammonia to form silicon nitride prepolymersEmployed in low pressure CVD of silicon nitride<br></p>Formel:C6H19N3SiReinheit:97%Farbe und Form:Straw LiquidMolekulargewicht:161.32Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD
CAS:<p>Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD</p>Formel:(CH3)2NSiHReinheit:(99.999%-Si)Farbe und Form:colorless to light yellow liq.Molekulargewicht:161.32




