CAS 562-90-3
:Tetraacetoxysilan
Beschreibung:
Tetraacetoxysilan, mit der CAS-Nummer 562-90-3, ist eine organosiliciumverbindung, die durch ihre vier an ein Siliziumatom gebundenen Acetoxygruppen gekennzeichnet ist. Es handelt sich typischerweise um eine farblose bis blassgelbe Flüssigkeit mit einem charakteristischen Geruch. Diese Verbindung ist bekannt für ihre Reaktivität, insbesondere in Hydrolyse- und Kondensationsreaktionen, bei denen sie Siloxan-Netzwerke bilden kann. Tetraacetoxysilan wird häufig als Vorläufer in der Synthese von Silica und silikatischen Materialien sowie in der Herstellung von Silikonpolymeren verwendet. Seine Acetoxygruppen machen es zu einem vielseitigen Reagenz in der organischen Synthese, das die Einführung von Silizium in verschiedene organische Strukturen ermöglicht. Darüber hinaus zeigt es eine gute Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln, was seine Nützlichkeit in verschiedenen Anwendungen, einschließlich Beschichtungen, Klebstoffen und Dichtstoffen, erhöht. Es sollte jedoch mit Vorsicht behandelt werden, da es bei Hydrolyse Acetessig freisetzen kann, was korrosiv sein kann. Bei der Arbeit mit dieser Verbindung in Labor- oder Industrieumgebungen sollten angemessene Sicherheitsmaßnahmen beachtet werden.
Formel:C8H12O8Si
InChl:InChI=1S/C8H12O8Si/c1-5(9)13-17(14-6(2)10,15-7(3)11)16-8(4)12/h1-4H3
InChI Key:InChIKey=YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O
Synonyme:- 562-90-3
- Acetic acid, 1,1′,1′′,1′′′-tetraanhydride with silicic acid (H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>)
- Acetic acid, tetraanhydride with H4SiO4
- Acetic acid, tetraanhydride with silicic acid (H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>)
- Silane, tetrakis(acetyloxy)-
- Silicic acid (H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>), tetraanhydride with acetic acid
- Silicon tetraacetate
- Tetraacetyl orthosilicate
- silicic acid (H_4_SiO_4_), tetraacetyl ester
- Acetic acid, 1,1′,1′′,1′′′-tetraanhydride with silicic acid (H4SiO4)
- Silicic acid (H4SiO4), tetraanhydride with acetic acid
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Silicon(IV) acetate
CAS:<p>Silicon tetraacetate is used in the preparation of silicon dioxide thin films by a direct photochemical vapor deposition method. It serves as a precursor to prepare silicon complexes with monofunctional bidentate Schiff bases. It is also used as an alternative to silicon hydride and alkoxide for low</p>Formel:Si(OOCCH3)4Farbe und Form:Solid, WhiteMolekulargewicht:264.27Silicon(IV) acetate, min. 95%
CAS:<p>Silicon(IV) acetate, min. 95%</p>Formel:Si(OOCCH3)4Reinheit:min. 95%Farbe und Form:white xtl.Molekulargewicht:264.27Acetic acid, 1,1',1'',1'''-tetraanhydride with silicic acid (H4SiO4)
CAS:Formel:C8H12O8SiReinheit:95%Farbe und Form:SolidMolekulargewicht:264.2616Silicon tetraacetate, anhydrous
CAS:Silicon tetraacetate, anhydrousReinheit:99%Farbe und Form:SolidMolekulargewicht:264.26g/molSilicon(IV) acetate
CAS:<p>S14500 - Silicon(IV) acetate</p>Formel:C8H12O8SiReinheit:95%Farbe und Form:Solid, CrystallineMolekulargewicht:264.261





