Iron sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.95% (metals basis)
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Ref. 02-040855
1ea
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Produktinformation
Name:Iron sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.95% (metals basis)
Marke:Alfa Aesar
Beschreibung:Iron sputtering target is used in semiconductor, chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) display and optical applications. This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and label information may
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Chemische Eigenschaften
Reinheit:99.95%
Technische Anfrage zu: Iron sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.95% (metals basis)
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