Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
CAS:
Ref. 02-043039
1ea
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Produktinformation
Name:Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
Synonyme:
- copper
- kupfer
- cobre
- cuivre
- copper atom
- cuprum
- copper(0)
- Cun
Marke:Alfa Aesar
Beschreibung:Sputtering targets commonly used to coat electronic components and electronic instruments. Due to its high electrical conductivity, copper is becoming increasingly popular for use in large-format, high-resolution TFT-LCD television sets. Copper is used as the electrode layer in thin-film transistors
Hinweis:Unsere Produkte sind nur für Laborzwecke. Für jede andere Verwendung, bitte melden sie sich bei uns.
Chemische Eigenschaften
Molekulargewicht:63.55
Formel:Cu
Reinheit:99.995%
Farbe/Form:Sputtering target, 50.8mm (2.0in) diameter x 6.35mm (0.250in) thick.
InChI Key:RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N
Technische Anfrage zu: Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
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