CAS 1066-77-9

TETRAKIS(DIMETILAMINO)ESTAÑO

Descripción:

TETRAKIS(DIMETILAMINO)ESTAÑO, con el número CAS 1066-77-9, es un compuesto organoestannico caracterizado por su átomo de estaño tetravalente unido a cuatro grupos dimetilamino. Este compuesto generalmente aparece como un líquido incoloro a amarillo pálido y es conocido por su volatilidad relativamente baja y alta reactividad. Es soluble en disolventes orgánicos, lo que lo hace útil en diversas aplicaciones químicas. TETRAKIS(DIMETILAMINO)ESTAÑO se utiliza principalmente en el campo de la química organometálica y como precursor en la síntesis de materiales a base de estaño, particularmente en la producción de películas delgadas y recubrimientos. Su estructura química confiere propiedades únicas, incluida la posible actividad catalítica y la capacidad de formar complejos con otros ligandos. Sin embargo, es importante manejar este compuesto con cuidado debido a su toxicidad y posible impacto ambiental, ya que los compuestos organoestannicos pueden exhibir efectos nocivos en la vida acuática y los ecosistemas. Se deben seguir las medidas de seguridad adecuadas y las regulaciones al trabajar con esta sustancia en entornos de laboratorio o industriales.

Fórmula: C₈H₂₄N₄Sn

InChI: InChI=1/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

SMILES: C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Sn]

Sinónimos:

• Octamethylstannanetetraamine
• Tin (Iv) Dimethylamide
• Tetrakis-(Dimethylamino-)-Stannane
• Tetrakis(dimethylamine)tin
• Tetrakis(dimethylamido)tin(IV)
• Tin(4+) Tetrakis(Dimethylazanide)

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

CAS: 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

Fórmula: SnN(CH₃)₂

Pureza: (99.99%-Sn)

Forma y color: colorless to pale-yellow liq.

Peso molecular: 295.01

Ref: 08-50-1815

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TIN

CAS: 1066-77-9

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tetrakis(dimethylamino)tin; Octamethylstannanetetraamine; Tin IV dimethylamide
Reacts with tris(aminoalkyl)amines, yielding azastannatranes

Fórmula: C₈H₂₄N₄Sn

Forma y color: Pale Yellow Liquid

Peso molecular: 294.99

Ref: 3H-SNT7350

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS: 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Fórmula: SnN(CH₃)₂

Pureza: (99.99% Sn)

Forma y color: colorless to pale-yellow liq.

Peso molecular: 295.01

Ref: 08-98-4050