Nickel silicide (NiSi2) is a binary compound formed from nickel and silicon, characterized by its metallic properties and semiconductor behavior. It typically appears as a gray or black solid and is known for its high thermal stability and good electrical conductivity, making it valuable in electronic applications, particularly in the fabrication of integrated circuits and as a contact material in semiconductor devices. NiSi2 has a relatively high melting point and exhibits a crystalline structure, which contributes to its robustness under various conditions. The compound is also notable for its ability to form at the interface of nickel and silicon during thermal processes, leading to the formation of a silicide layer that enhances the performance of electronic components. Additionally, nickel silicide can be synthesized through various methods, including solid-state reactions and chemical vapor deposition. Its properties make it an important material in the field of microelectronics and nanotechnology, where precise control over electrical characteristics is essential.

Nickel silicide (NiSi2)

Siliciuro de níquel (NiSi2) es un compuesto binario formado por níquel y silicio, caracterizado por sus propiedades metálicas y su comportamiento como semiconductor. Típicamente aparece como un sólido gris o negro y es conocido por su alta estabilidad térmica y buena conductividad eléctrica, lo que lo hace valioso en aplicaciones electrónicas, particularmente en la fabricación de circuitos integrados y como material de contacto en dispositivos semiconductores. NiSi2 tiene un punto de fusión relativamente alto y exhibe una estructura cristalina, lo que contribuye a su robustez bajo diversas condiciones. El compuesto también es notable por su capacidad para formarse en la interfaz de níquel y silicio durante procesos térmicos, lo que lleva a la formación de una capa de siliciuro que mejora el rendimiento de los componentes electrónicos. Además, el siliciuro de níquel se puede sintetizar a través de varios métodos, incluyendo reacciones en estado sólido y deposición de vapor químico. Sus propiedades lo convierten en un material importante en el campo de la microelectrónica y la nanotecnología, donde el control preciso sobre las características eléctricas es esencial.

12201-89-7: Siliciuro de níquel (NiSi2) es un compuesto binario formado por níquel y silicio, caracterizado por sus propiedades metálicas y su comportamiento como semiconductor. Típicamente aparece como un sólido gris o negro y es conocido por su alta estabilidad térmica y buena conductividad eléctrica, lo que lo hace valioso en aplicaciones electrónicas, particularmente en la fabricación de circuitos integrados y como material de contacto en dispositivos semiconductores. NiSi2 tiene un punto de fusión relativamente alto y exhibe una estructura cristalina, lo que contribuye a su robustez bajo diversas condiciones. El compuesto también es notable por su capacidad para formarse en la interfaz de níquel y silicio durante procesos térmicos, lo que lleva a la formación de una capa de siliciuro que mejora el rendimiento de los componentes electrónicos. Además, el siliciuro de níquel se puede sintetizar a través de varios métodos, incluyendo reacciones en estado sólido y deposición de vapor químico. Sus propiedades lo convierten en un material importante en el campo de la microelectrónica y la nanotecnología, donde el control preciso sobre las características eléctricas es esencial.

CAS 12201-89-7

Siliciuro de níquel (NiSi2)

Nickel silicide, 99%

Ref: 7W-GX5979