Tantalum hydride (TaH) is a chemical compound formed between tantalum and hydrogen. It typically appears as a solid and is characterized by its metallic properties, which include high density and hardness. Tantalum hydride is known for its stability and resistance to oxidation, making it suitable for high-temperature applications. The compound can be synthesized through various methods, including the reaction of tantalum with hydrogen gas at elevated temperatures. Tantalum hydride exhibits interesting electronic properties, which can be attributed to the presence of tantalum's d-electrons. It is often studied for its potential applications in materials science, particularly in the development of superconductors and advanced electronic devices. Additionally, TaH can serve as a precursor for the production of tantalum metal and other tantalum-based compounds. However, handling tantalum hydride requires caution, as it can react with moisture and air, leading to the formation of hazardous byproducts. Overall, tantalum hydride is a compound of interest in both academic research and industrial applications due to its unique properties.

Tantalum hydride (TaH)

Hidruro de tántalo (TaH) es un compuesto químico formado entre tantalio e hidrógeno. Típicamente aparece como un sólido y se caracteriza por sus propiedades metálicas, que incluyen alta densidad y dureza. El hidruro de tantalio es conocido por su estabilidad y resistencia a la oxidación, lo que lo hace adecuado para aplicaciones a altas temperaturas. El compuesto se puede sintetizar a través de varios métodos, incluida la reacción del tantalio con gas hidrógeno a temperaturas elevadas. El hidruro de tantalio exhibe propiedades electrónicas interesantes, que se pueden atribuir a la presencia de los electrones d del tantalio. A menudo se estudia por sus posibles aplicaciones en la ciencia de materiales, particularmente en el desarrollo de superconductores y dispositivos electrónicos avanzados. Además, TaH puede servir como precursor para la producción de metal de tantalio y otros compuestos a base de tantalio. Sin embargo, el manejo del hidruro de tantalio requiere precaución, ya que puede reaccionar con la humedad y el aire, lo que lleva a la formación de subproductos peligrosos. En general, el hidruro de tantalio es un compuesto de interés tanto en la investigación académica como en aplicaciones industriales debido a sus propiedades únicas.

13981-95-8: Hidruro de tántalo (TaH) es un compuesto químico formado entre tantalio e hidrógeno. Típicamente aparece como un sólido y se caracteriza por sus propiedades metálicas, que incluyen alta densidad y dureza. El hidruro de tantalio es conocido por su estabilidad y resistencia a la oxidación, lo que lo hace adecuado para aplicaciones a altas temperaturas. El compuesto se puede sintetizar a través de varios métodos, incluida la reacción del tantalio con gas hidrógeno a temperaturas elevadas. El hidruro de tantalio exhibe propiedades electrónicas interesantes, que se pueden atribuir a la presencia de los electrones d del tantalio. A menudo se estudia por sus posibles aplicaciones en la ciencia de materiales, particularmente en el desarrollo de superconductores y dispositivos electrónicos avanzados. Además, TaH puede servir como precursor para la producción de metal de tantalio y otros compuestos a base de tantalio. Sin embargo, el manejo del hidruro de tantalio requiere precaución, ya que puede reaccionar con la humedad y el aire, lo que lleva a la formación de subproductos peligrosos. En general, el hidruro de tantalio es un compuesto de interés tanto en la investigación académica como en aplicaciones industriales debido a sus propiedades únicas.

CAS 13981-95-8

Hidruro de tántalo (TaH)

Tantalum hydride

Ref: 54-IN3415