Descripción:Tetrakis(dimetilamido)hafnio(IV) es un compuesto organometálico con la fórmula Hf(N(CH₃)₂)₄. Se caracteriza por su coordinación de cuatro ligandos dimetilamido a un átomo central de hafnio, que está en el estado de oxidación +4. Este compuesto es típicamente un líquido o sólido incoloro a amarillo claro, dependiendo de su forma y pureza. Es conocido por su volatilidad y a menudo se utiliza como precursor en procesos de deposición química en fase de vapor (CVD) para películas delgadas de óxido de hafnio, que son importantes en la fabricación de semiconductores y otras aplicaciones de materiales avanzados. Tetrakis(dimetilamido)hafnio(IV) es sensible a la humedad y al aire, requiriendo un manejo cuidadoso en condiciones inertes para prevenir la hidrólisis y la oxidación. Su estabilidad térmica le permite descomponerse a temperaturas elevadas, liberando hafnio y subproductos que contienen nitrógeno. Debido a su naturaleza organometálica, exhibe una reactividad y propiedades únicas en comparación con los compuestos de hafnio tradicionales, lo que lo hace valioso en la ciencia de materiales y la nanotecnología.
Utilizamos cookies para mejorar su visita. No incluimos publicidad.
Consulte nuestra Política de Cookies para obtener más información o ajuste sus preferencias en "Configurar".
Esta es la configuración avanzada de cookies propias y de terceros. Aquí puede modificar los parámetros que afectarán directamente a su experiencia de navegación en esta web. Si lo desea, consulte la lista de tipos de cookies.
Tenga en cuenta que desactivar cookies puede provocar fallos en el funcionamiento normal de la web.