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Compuestos y consumibles para la deposición de película fina (CVD, ALD)

En esta categoría, encontrará una variedad de compuestos y consumibles específicamente diseñados para técnicas de deposición de películas delgadas, como la deposición química de vapor (CVD) y la deposición de capas atómicas (ALD). Estos materiales de alta pureza son esenciales para crear películas delgadas precisas y uniformes en la fabricación de semiconductores, fotovoltaicos y recubrimientos avanzados. En CymitQuimica, ofrecemos una selección completa de compuestos y consumibles de alta calidad para apoyar sus procesos de deposición de películas delgadas.

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Bis(pentamethylcyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Decamethylosmocene)


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Phosphorus(III) chloride, 98+%


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Tungsten carbonyl, 99% (<0.1%-Mo)


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Bis(cyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Osmocene)


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Chromium carbonyl, sublimed, 99%


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Tungsten carbonyl, 99% (99.9+%-W) sublimed


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Osmium carbonyl, 99%


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Chromium carbonyl, 98+%


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Nickel carbonyl


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