CAS 1066-77-9

TÉTRAKIS(DIMÉTHYLAMINO)ÉTAIN

Description :

TÉTRAKIS(DIMÉTHYLAMINO)ÉTAIN, avec le numéro CAS 1066-77-9, est un composé organotinique caractérisé par son atome d'étain tétraédrique lié à quatre groupes diméthylamino. Ce composé apparaît généralement sous forme de liquide incolore à jaune pâle et est connu pour sa volatilité relativement faible et sa haute réactivité. Il est soluble dans des solvants organiques, ce qui le rend utile dans diverses applications chimiques. TÉTRAKIS(DIMÉTHYLAMINO)ÉTAIN est principalement utilisé dans le domaine de la chimie organométallique et comme précurseur dans la synthèse de matériaux à base d'étain, en particulier dans la production de films minces et de revêtements. Sa structure chimique confère des propriétés uniques, y compris une activité catalytique potentielle et la capacité de former des complexes avec d'autres ligands. Cependant, il est important de manipuler ce composé avec précaution en raison de sa toxicité et de son impact environnemental potentiel, car les composés organotiniques peuvent avoir des effets nocifs sur la vie aquatique et les écosystèmes. Des mesures de sécurité appropriées et des réglementations doivent être suivies lors de la manipulation de cette substance dans des environnements de laboratoire ou industriels.

Formule : C₈H₂₄N₄Sn

InChI : InChI=1/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

SMILES : C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Sn]

Synonymes :

• Octamethylstannanetetraamine
• Tin (Iv) Dimethylamide
• Tetrakis-(Dimethylamino-)-Stannane
• Tetrakis(dimethylamine)tin
• Tetrakis(dimethylamido)tin(IV)
• Tin(4+) Tetrakis(Dimethylazanide)

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

CAS : 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

Formule : SnN(CH₃)₂

Degré de pureté : (99.99%-Sn)

Couleur et forme : colorless to pale-yellow liq.

Masse moléculaire : 295.01

Ref: 08-50-1815

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TIN

CAS : 1066-77-9

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tetrakis(dimethylamino)tin; Octamethylstannanetetraamine; Tin IV dimethylamide
Reacts with tris(aminoalkyl)amines, yielding azastannatranes

Formule : C₈H₂₄N₄Sn

Couleur et forme : Pale Yellow Liquid

Masse moléculaire : 294.99

Ref: 3H-SNT7350

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS : 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Formule : SnN(CH₃)₂

Degré de pureté : (99.99% Sn)

Couleur et forme : colorless to pale-yellow liq.

Masse moléculaire : 295.01

Ref: 08-98-4050