Nickel silicide (NiSi2) is a binary compound formed from nickel and silicon, characterized by its metallic properties and semiconductor behavior. It typically appears as a gray or black solid and is known for its high thermal stability and good electrical conductivity, making it valuable in electronic applications, particularly in the fabrication of integrated circuits and as a contact material in semiconductor devices. NiSi2 has a relatively high melting point and exhibits a crystalline structure, which contributes to its robustness under various conditions. The compound is also notable for its ability to form at the interface of nickel and silicon during thermal processes, leading to the formation of a silicide layer that enhances the performance of electronic components. Additionally, nickel silicide can be synthesized through various methods, including solid-state reactions and chemical vapor deposition. Its properties make it an important material in the field of microelectronics and nanotechnology, where precise control over electrical characteristics is essential.

Nickel silicide (NiSi2)

Siliciure de nickel (NiSi2) est un composé binaire formé de nickel et de silicium, caractérisé par ses propriétés métalliques et son comportement de semi-conducteur. Il apparaît généralement sous la forme d'un solide gris ou noir et est connu pour sa haute stabilité thermique et sa bonne conductivité électrique, ce qui le rend précieux dans les applications électroniques, en particulier dans la fabrication de circuits intégrés et comme matériau de contact dans les dispositifs semi-conducteurs. NiSi2 a un point de fusion relativement élevé et présente une structure cristalline, ce qui contribue à sa robustesse dans diverses conditions. Le composé est également remarquable pour sa capacité à se former à l'interface du nickel et du silicium lors des processus thermiques, conduisant à la formation d'une couche de siliciure qui améliore les performances des composants électroniques. De plus, le siliciure de nickel peut être synthétisé par divers méthodes, y compris des réactions à l'état solide et la déposition de vapeur chimique. Ses propriétés en font un matériau important dans le domaine de la microélectronique et de la nanotechnologie, où un contrôle précis des caractéristiques électriques est essentiel.

12201-89-7: Siliciure de nickel (NiSi2) est un composé binaire formé de nickel et de silicium, caractérisé par ses propriétés métalliques et son comportement de semi-conducteur. Il apparaît généralement sous la forme d'un solide gris ou noir et est connu pour sa haute stabilité thermique et sa bonne conductivité électrique, ce qui le rend précieux dans les applications électroniques, en particulier dans la fabrication de circuits intégrés et comme matériau de contact dans les dispositifs semi-conducteurs. NiSi2 a un point de fusion relativement élevé et présente une structure cristalline, ce qui contribue à sa robustesse dans diverses conditions. Le composé est également remarquable pour sa capacité à se former à l'interface du nickel et du silicium lors des processus thermiques, conduisant à la formation d'une couche de siliciure qui améliore les performances des composants électroniques. De plus, le siliciure de nickel peut être synthétisé par divers méthodes, y compris des réactions à l'état solide et la déposition de vapeur chimique. Ses propriétés en font un matériau important dans le domaine de la microélectronique et de la nanotechnologie, où un contrôle précis des caractéristiques électriques est essentiel.

CAS 12201-89-7

Siliciure de nickel (NiSi2)

Nickel silicide, 99%

Ref: 7W-GX5979