CymitQuimica logo

CAS 13597-87-0

:

trisilane, 2-silyl-

Description :
trisilane, 2-silyl- est un composé chimique caractérisé par sa structure à base de silicium, contenant spécifiquement trois atomes de silicium dans son squelette. Il fait partie de la famille des silanes, qui sont des composés constitués de silicium et d'hydrogène. La présence de groupes silyl indique qu'il a des substituants attachés aux atomes de silicium, ce qui peut influencer sa réactivité et ses propriétés. Les composés de trisilane sont généralement connus pour leur volatilité et peuvent être utilisés dans diverses applications, y compris comme précurseurs dans la synthèse de matériaux à base de silicium et dans l'industrie des semi-conducteurs. Ils peuvent présenter des propriétés uniques telles qu'une faible viscosité et la capacité de former des liaisons siloxanes lors de l'hydrolyse. De plus, les composés de trisilane peuvent participer à des réactions typiques de la chimie organosiliconique, y compris l'hydrosilylation et la polymérisation. Les considérations de sécurité sont importantes lors de la manipulation de telles substances, car elles peuvent être inflammables et peuvent présenter des risques pour la santé si elles sont inhalées ou ingérées. Dans l'ensemble, trisilane, 2-silyl- représente une classe polyvalente de composés ayant une importance industrielle significative.
Formule :H10Si4
InChI :InChI=1/H10Si4/c1-4(2)3/h4H,1-3H3
Synonymes :
  • 2-Silyltrisilane
  • ISOTETRASILANE
  • Trisilane, 2-silyl- (7CI,9CI)
Trier par
Degré de pureté (%)
0
100
|
0
|
50
|
90
|
95
|
100
1 produits concernés.
  • ISOTETRASILANE
    Gelest
    + Info

    ISOTETRASILANE

    CAS :
    <p>Volatile Higher Silane<br>Volatile higher silanes are low temperature, high deposition rate precursors. By appropriate selection of precursor and deposition conditions, silicon deposition can be shifted from amorphous hydrogenated silicon toward microcrystalline silicon structures. As the number of silicon atoms increases beyond two, electrons are capable of sigma–sigma bond conjugation. The dissociative adsorption of two of the three hydrogen atoms on terminal silicon atoms has a lower energy barrier.<br>Isotetrasilane; (Trisilyl)silane; 2-Silyltrisilane<br>PYROPHORICAIR TRANSPORT FORBIDDEN?Hvap: 32.5 kJ/molPrecursor for low temp. epitaxy of doped crystalline siliconEmployed in low temperature CVD of amorphous silicon<br></p>
    Formule :H10Si4
    Degré de pureté :98%
    Couleur et forme :Colourless Liquid
    Masse moléculaire :122.42

    Ref: 3H-SII6463.4

    5g
    Arrêté
    Produit arrêté