Tantalum hydride (TaH) is a chemical compound formed between tantalum and hydrogen. It typically appears as a solid and is characterized by its metallic properties, which include high density and hardness. Tantalum hydride is known for its stability and resistance to oxidation, making it suitable for high-temperature applications. The compound can be synthesized through various methods, including the reaction of tantalum with hydrogen gas at elevated temperatures. Tantalum hydride exhibits interesting electronic properties, which can be attributed to the presence of tantalum's d-electrons. It is often studied for its potential applications in materials science, particularly in the development of superconductors and advanced electronic devices. Additionally, TaH can serve as a precursor for the production of tantalum metal and other tantalum-based compounds. However, handling tantalum hydride requires caution, as it can react with moisture and air, leading to the formation of hazardous byproducts. Overall, tantalum hydride is a compound of interest in both academic research and industrial applications due to its unique properties.

Tantalum hydride (TaH)

Hydrure de tantale (TaH) est un composé chimique formé entre le tantale et l'hydrogène. Il se présente généralement sous forme solide et est caractérisé par ses propriétés métalliques, qui incluent une haute densité et dureté. L'hydrure de tantale est connu pour sa stabilité et sa résistance à l'oxydation, ce qui le rend adapté aux applications à haute température. Le composé peut être synthétisé par divers méthodes, y compris la réaction du tantale avec du gaz hydrogène à des températures élevées. L'hydrure de tantale présente des propriétés électroniques intéressantes, qui peuvent être attribuées à la présence des électrons d du tantale. Il est souvent étudié pour ses applications potentielles en science des matériaux, en particulier dans le développement de supraconducteurs et de dispositifs électroniques avancés. De plus, TaH peut servir de précurseur pour la production de métal de tantale et d'autres composés à base de tantale. Cependant, la manipulation de l'hydrure de tantale nécessite de la prudence, car il peut réagir avec l'humidité et l'air, entraînant la formation de sous-produits dangereux. Dans l'ensemble, l'hydrure de tantale est un composé d'intérêt tant dans la recherche académique que dans les applications industrielles en raison de ses propriétés uniques.

13981-95-8: Hydrure de tantale (TaH) est un composé chimique formé entre le tantale et l'hydrogène. Il se présente généralement sous forme solide et est caractérisé par ses propriétés métalliques, qui incluent une haute densité et dureté. L'hydrure de tantale est connu pour sa stabilité et sa résistance à l'oxydation, ce qui le rend adapté aux applications à haute température. Le composé peut être synthétisé par divers méthodes, y compris la réaction du tantale avec du gaz hydrogène à des températures élevées. L'hydrure de tantale présente des propriétés électroniques intéressantes, qui peuvent être attribuées à la présence des électrons d du tantale. Il est souvent étudié pour ses applications potentielles en science des matériaux, en particulier dans le développement de supraconducteurs et de dispositifs électroniques avancés. De plus, TaH peut servir de précurseur pour la production de métal de tantale et d'autres composés à base de tantale. Cependant, la manipulation de l'hydrure de tantale nécessite de la prudence, car il peut réagir avec l'humidité et l'air, entraînant la formation de sous-produits dangereux. Dans l'ensemble, l'hydrure de tantale est un composé d'intérêt tant dans la recherche académique que dans les applications industrielles en raison de ses propriétés uniques.

CAS 13981-95-8

Hydrure de tantale (TaH)

Tantalum hydride

Ref: 54-IN3415