CAS 15112-89-7

N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexaméthylsilanetriamine

Description :

N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexaméthylsilanetriamine, avec le numéro CAS 15112-89-7, est un composé organosiliconé caractérisé par sa structure unique qui comprend un atome de silicium lié à trois atomes d'azote, chacun étant également lié à des groupes méthyle. Ce composé est généralement un liquide incolore à jaune pâle et est connu pour sa haute stabilité thermique et sa faible volatilité. Il présente des propriétés telles que la solubilité dans des solvants organiques et une réactivité potentielle avec divers électrophiles en raison de la présence d'atomes d'azote. L'hexaméthylsilantétraamine est souvent utilisée dans la synthèse de polymères silicones et comme ligand en chimie de coordination. Sa capacité à former des complexes stables avec des métaux la rend précieuse en catalyse et en science des matériaux. De plus, elle peut avoir des applications dans le domaine de la nanotechnologie et comme précurseur dans la production de matériaux à base de silicium. Des précautions de sécurité doivent être observées lors de la manipulation de ce composé, car il peut présenter des risques pour la santé s'il est inhalé ou ingéré.

Formule : C₆H₁₉N₃Si

InChI : InChI=1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

Code InChI : InChIKey=TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

SMILES : [SiH](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

Synonymes :

• Brn 1901643
• Ls 1460
• N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
• Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
• Tri(dimethylamino)silane
• Tris(Dimethylamino)Silyl
• [Bis(dimethylamino)silyl]dimethylamine
• Tris(dimethylamino)silane

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM

CAS : 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM

Formule : (CH₃)₂NSiH

Degré de pureté : (99.999%-Si)

Couleur et forme : colorless to light yellow liq.

Masse moléculaire : 161.32

Ref: 08-14-8750

Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-

CAS : 15112-89-7

Formule : C₆H₁₉N₃Si

Degré de pureté : 95%

Couleur et forme : Liquid

Masse moléculaire : 161.3207

Ref: IN-DA001N41

Tris(dimethylamino)silane

CAS : 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane

Degré de pureté : 99%, 99.999%-Si

Masse moléculaire : 161.32g/mol

Ref: 54-OR1044195

TRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE

CAS : 15112-89-7

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tris(dimethylamino)silane; Tris(dimethylamido)silylhydride; N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
AIR TRANSPORT FORBIDDENVapor pressure, 4 °C: 1 6 mmHydrosilylates olefins in presence of Rh2Cl2(CO)4Reacts with ammonia to form silicon nitride prepolymersEmployed in low pressure CVD of silicon nitride

Formule : C₆H₁₉N₃Si

Degré de pureté : 97%

Couleur et forme : Straw Liquid

Masse moléculaire : 161.32

Ref: 3H-SIT8714.0

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS : 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Formule : (CH₃)₂NSiH

Degré de pureté : (99.999%-Si)

Couleur et forme : colorless to light yellow liq.

Masse moléculaire : 161.32

Ref: 08-98-4035