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Composés et consommables pour le dépôt de couches minces (CVD, ALD)

Dans cette catégorie, vous trouverez une variété de composés et de consommables spécialement conçus pour les techniques de dépôt de films minces telles que la déposition chimique en phase vapeur (CVD) et la déposition par couches atomiques (ALD). Ces matériaux de haute pureté sont essentiels pour créer des films minces précis et uniformes dans la fabrication de semi-conducteurs, les photovoltaïques et les revêtements avancés. Chez CymitQuimica, nous offrons une sélection complète de composés et de consommables de haute qualité pour soutenir vos processus de dépôt de films minces.

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Bis(pentamethylcyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Decamethylosmocene)


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Phosphorus(III) chloride, 98+%


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Tungsten carbonyl, 99% (<0.1%-Mo)


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Bis(cyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Osmocene)


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Chromium carbonyl, sublimed, 99%


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Tungsten carbonyl, 99% (99.9+%-W) sublimed


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Osmium carbonyl, 99%


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Chromium carbonyl, 98+%


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Nickel carbonyl


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