Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
CAS :
Ref. 02-043039
1ea
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Informations sur le produit
Nom:Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
Synonymes :
- copper
- kupfer
- cobre
- cuivre
- copper atom
- cuprum
- copper(0)
- Cun
Marque:Alfa Aesar
Description :Sputtering targets commonly used to coat electronic components and electronic instruments. Due to its high electrical conductivity, copper is becoming increasingly popular for use in large-format, high-resolution TFT-LCD television sets. Copper is used as the electrode layer in thin-film transistors
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Propriétés chimiques
Masse moléculaire :63.55
Formule :Cu
Degré de pureté :99.995%
Couleur/Forme :Sputtering target, 50.8mm (2.0in) diameter x 6.35mm (0.250in) thick.
Code InChI :RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N
Question d’ordre technique à propos de: Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
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