Informations sur le produit
Nom:TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TIN
Synonymes :
- OCTAMETHYLSTANNANETETRAAMINE
Marque:Gelest
Description :ALD MaterialAtomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.Tetrakis(dimethylamino)tin; Octamethylstannanetetraamine; Tin IV dimethylamideReacts with tris(aminoalkyl)amines, yielding azastannatranes
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Propriétés chimiques
Masse moléculaire :294.99
Formule :C8H24N4Sn
Couleur/Forme :Pale Yellow Liquid
Question d’ordre technique à propos de: TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TIN
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