Nickel silicide (NiSi2) is a binary compound formed from nickel and silicon, characterized by its metallic properties and semiconductor behavior. It typically appears as a gray or black solid and is known for its high thermal stability and good electrical conductivity, making it valuable in electronic applications, particularly in the fabrication of integrated circuits and as a contact material in semiconductor devices. NiSi2 has a relatively high melting point and exhibits a crystalline structure, which contributes to its robustness under various conditions. The compound is also notable for its ability to form at the interface of nickel and silicon during thermal processes, leading to the formation of a silicide layer that enhances the performance of electronic components. Additionally, nickel silicide can be synthesized through various methods, including solid-state reactions and chemical vapor deposition. Its properties make it an important material in the field of microelectronics and nanotechnology, where precise control over electrical characteristics is essential.

Nickel silicide (NiSi2)

Siliciuro di nichel (NiSi2) è un composto binario formato da nichel e silicio, caratterizzato dalle sue proprietà metalliche e dal comportamento da semiconduttore. Appare tipicamente come un solido grigio o nero ed è noto per la sua alta stabilità termica e buona conduttività elettrica, rendendolo prezioso nelle applicazioni elettroniche, in particolare nella fabbricazione di circuiti integrati e come materiale di contatto nei dispositivi semiconduttori. NiSi2 ha un punto di fusione relativamente alto ed exhibit una struttura cristallina, che contribuisce alla sua robustezza in varie condizioni. Il composto è anche notevole per la sua capacità di formarsi all'interfaccia tra nichel e silicio durante i processi termici, portando alla formazione di uno strato di siliciuro che migliora le prestazioni dei componenti elettronici. Inoltre, il siliciuro di nichel può essere sintetizzato attraverso vari metodi, comprese reazioni allo stato solido e deposizione di vapore chimico. Le sue proprietà lo rendono un materiale importante nel campo della microelettronica e della nanotecnologia, dove il controllo preciso delle caratteristiche elettriche è essenziale.

12201-89-7: Siliciuro di nichel (NiSi2) è un composto binario formato da nichel e silicio, caratterizzato dalle sue proprietà metalliche e dal comportamento da semiconduttore. Appare tipicamente come un solido grigio o nero ed è noto per la sua alta stabilità termica e buona conduttività elettrica, rendendolo prezioso nelle applicazioni elettroniche, in particolare nella fabbricazione di circuiti integrati e come materiale di contatto nei dispositivi semiconduttori. NiSi2 ha un punto di fusione relativamente alto ed exhibit una struttura cristallina, che contribuisce alla sua robustezza in varie condizioni. Il composto è anche notevole per la sua capacità di formarsi all'interfaccia tra nichel e silicio durante i processi termici, portando alla formazione di uno strato di siliciuro che migliora le prestazioni dei componenti elettronici. Inoltre, il siliciuro di nichel può essere sintetizzato attraverso vari metodi, comprese reazioni allo stato solido e deposizione di vapore chimico. Le sue proprietà lo rendono un materiale importante nel campo della microelettronica e della nanotecnologia, dove il controllo preciso delle caratteristiche elettriche è essenziale.

CAS 12201-89-7

Siliciuro di nichel (NiSi2)

Nickel silicide, 99%

Ref: 7W-GX5979