CAS 13597-87-0
:trisilano, 2-silil-
Descrizione:
trisilano, 2-silil- è un composto chimico caratterizzato dalla sua struttura a base di silicio, contenente specificamente tre atomi di silicio nella sua catena principale. Fa parte della famiglia dei silani, che sono composti costituiti da silicio e idrogeno. La presenza di gruppi silyl indica che ha sostituenti attaccati agli atomi di silicio, il che può influenzare la sua reattività e le sue proprietà. I composti di trisilano sono generalmente noti per la loro volatilità e possono essere utilizzati in varie applicazioni, inclusi come precursori nella sintesi di materiali a base di silicio e nell'industria dei semiconduttori. Possono presentare proprietà uniche come bassa viscosità e la capacità di formare legami silossanici dopo idrolisi. Inoltre, i composti di trisilano possono partecipare a reazioni tipiche della chimica organosiliconica, inclusa l'idrosililazione e la polimerizzazione. Le considerazioni di sicurezza sono importanti quando si maneggiano tali sostanze, poiché possono essere infiammabili e possono comportare rischi per la salute se inalate o ingerite. In generale, trisilano, 2-silil- rappresenta una classe versatile di composti con una rilevanza industriale significativa.
Formula:H10Si4
InChI:InChI=1/H10Si4/c1-4(2)3/h4H,1-3H3
Sinonimi:- 2-Silyltrisilane
- ISOTETRASILANE
- Trisilane, 2-silyl- (7CI,9CI)
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ISOTETRASILANE
CAS:Volatile Higher Silane
Volatile higher silanes are low temperature, high deposition rate precursors. By appropriate selection of precursor and deposition conditions, silicon deposition can be shifted from amorphous hydrogenated silicon toward microcrystalline silicon structures. As the number of silicon atoms increases beyond two, electrons are capable of sigma–sigma bond conjugation. The dissociative adsorption of two of the three hydrogen atoms on terminal silicon atoms has a lower energy barrier.
Isotetrasilane; (Trisilyl)silane; 2-Silyltrisilane
PYROPHORICAIR TRANSPORT FORBIDDEN?Hvap: 32.5 kJ/molPrecursor for low temp. epitaxy of doped crystalline siliconEmployed in low temperature CVD of amorphous siliconFormula:H10Si4Purezza:98%Colore e forma:Colourless LiquidPeso molecolare:122.42
