Tantalum hydride (TaH) is a chemical compound formed between tantalum and hydrogen. It typically appears as a solid and is characterized by its metallic properties, which include high density and hardness. Tantalum hydride is known for its stability and resistance to oxidation, making it suitable for high-temperature applications. The compound can be synthesized through various methods, including the reaction of tantalum with hydrogen gas at elevated temperatures. Tantalum hydride exhibits interesting electronic properties, which can be attributed to the presence of tantalum's d-electrons. It is often studied for its potential applications in materials science, particularly in the development of superconductors and advanced electronic devices. Additionally, TaH can serve as a precursor for the production of tantalum metal and other tantalum-based compounds. However, handling tantalum hydride requires caution, as it can react with moisture and air, leading to the formation of hazardous byproducts. Overall, tantalum hydride is a compound of interest in both academic research and industrial applications due to its unique properties.

Tantalum hydride (TaH)

Idruro di tantalio (TaH) è un composto chimico formato tra tantalio e idrogeno. Appare tipicamente come un solido ed è caratterizzato dalle sue proprietà metalliche, che includono alta densità e durezza. L'idruro di tantalio è noto per la sua stabilità e resistenza all'ossidazione, rendendolo adatto per applicazioni ad alta temperatura. Il composto può essere sintetizzato attraverso vari metodi, inclusa la reazione del tantalio con gas idrogeno a temperature elevate. L'idruro di tantalio mostra interessanti proprietà elettroniche, che possono essere attribuite alla presenza degli elettroni d del tantalio. Viene spesso studiato per le sue potenziali applicazioni nella scienza dei materiali, in particolare nello sviluppo di superconduttori e dispositivi elettronici avanzati. Inoltre, TaH può servire come precursore per la produzione di metallo di tantalio e altri composti a base di tantalio. Tuttavia, la manipolazione dell'idruro di tantalio richiede cautela, poiché può reagire con l'umidità e l'aria, portando alla formazione di sottoprodotti pericolosi. In generale, l'idruro di tantalio è un composto di interesse sia nella ricerca accademica che nelle applicazioni industriali grazie alle sue proprietà uniche.

13981-95-8: Idruro di tantalio (TaH) è un composto chimico formato tra tantalio e idrogeno. Appare tipicamente come un solido ed è caratterizzato dalle sue proprietà metalliche, che includono alta densità e durezza. L'idruro di tantalio è noto per la sua stabilità e resistenza all'ossidazione, rendendolo adatto per applicazioni ad alta temperatura. Il composto può essere sintetizzato attraverso vari metodi, inclusa la reazione del tantalio con gas idrogeno a temperature elevate. L'idruro di tantalio mostra interessanti proprietà elettroniche, che possono essere attribuite alla presenza degli elettroni d del tantalio. Viene spesso studiato per le sue potenziali applicazioni nella scienza dei materiali, in particolare nello sviluppo di superconduttori e dispositivi elettronici avanzati. Inoltre, TaH può servire come precursore per la produzione di metallo di tantalio e altri composti a base di tantalio. Tuttavia, la manipolazione dell'idruro di tantalio richiede cautela, poiché può reagire con l'umidità e l'aria, portando alla formazione di sottoprodotti pericolosi. In generale, l'idruro di tantalio è un composto di interesse sia nella ricerca accademica che nelle applicazioni industriali grazie alle sue proprietà uniche.

CAS 13981-95-8

Idruro di tantalio (TaH)

Tantalum hydride

Ref: 54-IN3415