CAS 15112-89-7
:N,N,N′,N′,N′′,N′′-Esametilsilanotriammina
Descrizione:
N,N,N′,N′,N′′,N′′-Esametilsilanotriammina, con il numero CAS 15112-89-7, è un composto organosiliconico caratterizzato dalla sua struttura unica che include un atomo di silicio legato a tre atomi di azoto, ognuno dei quali è ulteriormente legato a gruppi metilici. Questo composto è tipicamente un liquido incolore o giallo pallido ed è noto per la sua alta stabilità termica e bassa volatilità. Presenta proprietà come la solubilità in solventi organici e una potenziale reattività con vari elettrofili a causa della presenza di atomi di azoto. L'hexametilsilantriamina è spesso utilizzata nella sintesi di polimeri di silicone e come ligando nella chimica di coordinazione. La sua capacità di formare complessi stabili con i metalli la rende preziosa nella catalisi e nella scienza dei materiali. Inoltre, potrebbe avere applicazioni nel campo della nanotecnologia e come precursore nella produzione di materiali a base di silicio. Devono essere osservate precauzioni di sicurezza quando si maneggia questo composto, poiché potrebbe comportare rischi per la salute se inalato o ingerito.
Formula:C6H19N3Si
InChI:InChI=1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3
InChI key:InChIKey=TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[SiH](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
Sinonimi:- Brn 1901643
- Ls 1460
- N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
- Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
- Tri(dimethylamino)silane
- Tris(Dimethylamino)Silyl
- [Bis(dimethylamino)silyl]dimethylamine
- Tris(dimethylamino)silane
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Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
CAS:<p>Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM</p>Formula:(CH3)2NSiHPurezza:(99.999%-Si)Colore e forma:colorless to light yellow liq.Peso molecolare:161.32Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
CAS:Formula:C6H19N3SiPurezza:95%Colore e forma:LiquidPeso molecolare:161.3207Tris(dimethylamino)silane
CAS:Tris(dimethylamino)silanePurezza:99%, 99.999%-SiPeso molecolare:161.32g/molTRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE
CAS:<p>ALD Material<br>Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.<br>Tris(dimethylamino)silane; Tris(dimethylamido)silylhydride; N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine<br>AIR TRANSPORT FORBIDDENVapor pressure, 4 °C: 1 6 mmHydrosilylates olefins in presence of Rh2Cl2(CO)4Reacts with ammonia to form silicon nitride prepolymersEmployed in low pressure CVD of silicon nitride<br></p>Formula:C6H19N3SiPurezza:97%Colore e forma:Straw LiquidPeso molecolare:161.32Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD
CAS:<p>Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD</p>Formula:(CH3)2NSiHPurezza:(99.999%-Si)Colore e forma:colorless to light yellow liq.Peso molecolare:161.32




