CAS 15112-89-7

N,N,N′,N′,N′′,N′′-Esametilsilanotriammina

Descrizione:

N,N,N′,N′,N′′,N′′-Esametilsilanotriammina, con il numero CAS 15112-89-7, è un composto organosiliconico caratterizzato dalla sua struttura unica che include un atomo di silicio legato a tre atomi di azoto, ognuno dei quali è ulteriormente legato a gruppi metilici. Questo composto è tipicamente un liquido incolore o giallo pallido ed è noto per la sua alta stabilità termica e bassa volatilità. Presenta proprietà come la solubilità in solventi organici e una potenziale reattività con vari elettrofili a causa della presenza di atomi di azoto. L'hexametilsilantriamina è spesso utilizzata nella sintesi di polimeri di silicone e come ligando nella chimica di coordinazione. La sua capacità di formare complessi stabili con i metalli la rende preziosa nella catalisi e nella scienza dei materiali. Inoltre, potrebbe avere applicazioni nel campo della nanotecnologia e come precursore nella produzione di materiali a base di silicio. Devono essere osservate precauzioni di sicurezza quando si maneggia questo composto, poiché potrebbe comportare rischi per la salute se inalato o ingerito.

Formula: C₆H₁₉N₃Si

InChI: InChI=1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

InChI key: InChIKey=TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

SMILES: [SiH](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

Sinonimi:

• Brn 1901643
• Ls 1460
• N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
• Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
• Tri(dimethylamino)silane
• Tris(Dimethylamino)Silyl
• [Bis(dimethylamino)silyl]dimethylamine
• Tris(dimethylamino)silane

Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-

CAS: 15112-89-7

Formula: C₆H₁₉N₃Si

Purezza: 95%

Colore e forma: Liquid

Peso molecolare: 161.3207

Ref: IN-DA001N41

Tris(dimethylamino)silane

CAS: 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane

Purezza: 99%, 99.999%-Si

Peso molecolare: 161.32g/mol

Ref: 54-OR1044195

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM

CAS: 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM

Formula: (CH₃)₂NSiH

Purezza: (99.999%-Si)

Colore e forma: colorless to light yellow liq.

Peso molecolare: 161.32

Ref: 08-14-8750

TRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE

CAS: 15112-89-7

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tris(dimethylamino)silane; Tris(dimethylamido)silylhydride; N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
AIR TRANSPORT FORBIDDENVapor pressure, 4 °C: 1 6 mmHydrosilylates olefins in presence of Rh2Cl2(CO)4Reacts with ammonia to form silicon nitride prepolymersEmployed in low pressure CVD of silicon nitride

Formula: C₆H₁₉N₃Si

Purezza: 97%

Colore e forma: Straw Liquid

Peso molecolare: 161.32

Ref: 3H-SIT8714.0

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS: 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Formula: (CH₃)₂NSiH

Purezza: (99.999%-Si)

Colore e forma: colorless to light yellow liq.

Peso molecolare: 161.32

Ref: 08-98-4035