CAS 562-90-3
:Tetraacetossisilano
Descrizione:
Tetraacetossisilano, con il numero CAS 562-90-3, è un composto organosiliconico caratterizzato dai suoi quattro gruppi acetossilici legati a un atomo di silicio. Tipicamente è un liquido incolore o giallo pallido con un odore distintivo. Questo composto è noto per la sua reattività, in particolare nelle reazioni di idrolisi e condensazione, dove può formare reti di silossano. Tetraacetossisilano è spesso utilizzato come precursore nella sintesi di silice e materiali silicatati, così come nella produzione di polimeri di silicone. I suoi gruppi acetossilici lo rendono un reagente versatile nella sintesi organica, consentendo l'introduzione di silicio in vari schemi organici. Inoltre, presenta una buona solubilità in solventi organici, il che ne aumenta l'utilità in varie applicazioni, tra cui rivestimenti, adesivi e sigillanti. Tuttavia, deve essere maneggiato con cura a causa del suo potenziale di liberare acido acetico durante l'idrolisi, che può essere corrosivo. Devono essere osservate le adeguate misure di sicurezza quando si lavora con questo composto in ambienti di laboratorio o industriali.
Formula:C8H12O8Si
InChI:InChI=1S/C8H12O8Si/c1-5(9)13-17(14-6(2)10,15-7(3)11)16-8(4)12/h1-4H3
InChI key:InChIKey=YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O
Sinonimi:- 562-90-3
- Acetic acid, 1,1′,1′′,1′′′-tetraanhydride with silicic acid (H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>)
- Acetic acid, tetraanhydride with H4SiO4
- Acetic acid, tetraanhydride with silicic acid (H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>)
- Silane, tetrakis(acetyloxy)-
- Silicic acid (H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>), tetraanhydride with acetic acid
- Silicon tetraacetate
- Tetraacetyl orthosilicate
- silicic acid (H_4_SiO_4_), tetraacetyl ester
- Acetic acid, 1,1′,1′′,1′′′-tetraanhydride with silicic acid (H4SiO4)
- Silicic acid (H4SiO4), tetraanhydride with acetic acid
- Vedi altri sinonimi
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Silicon(IV) acetate
CAS:<p>Silicon tetraacetate is used in the preparation of silicon dioxide thin films by a direct photochemical vapor deposition method. It serves as a precursor to prepare silicon complexes with monofunctional bidentate Schiff bases. It is also used as an alternative to silicon hydride and alkoxide for low</p>Formula:Si(OOCCH3)4Colore e forma:Solid, WhitePeso molecolare:264.27Silicon(IV) acetate, min. 95%
CAS:<p>Silicon(IV) acetate, min. 95%</p>Formula:Si(OOCCH3)4Purezza:min. 95%Colore e forma:white xtl.Peso molecolare:264.27Acetic acid, 1,1',1'',1'''-tetraanhydride with silicic acid (H4SiO4)
CAS:Formula:C8H12O8SiPurezza:95%Colore e forma:SolidPeso molecolare:264.2616Silicon tetraacetate, anhydrous
CAS:Silicon tetraacetate, anhydrousPurezza:99%Colore e forma:SolidPeso molecolare:264.26g/molSilicon(IV) acetate
CAS:<p>S14500 - Silicon(IV) acetate</p>Formula:C8H12O8SiPurezza:95%Colore e forma:Solid, CrystallinePeso molecolare:264.261





