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Composti e materiali di consumo per la deposizione di pellicola sottile (CVD, ALD)

In questa categoria troverai una varietà di composti e materiali di consumo appositamente progettati per tecniche di deposizione di film sottili come la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione a strati atomici (ALD). Questi materiali ad alta purezza sono essenziali per creare film sottili precisi e uniformi nella produzione di semiconduttori, nel fotovoltaico e nei rivestimenti avanzati. Presso CymitQuimica, offriamo una selezione completa di composti e materiali di consumo di alta qualità per supportare i tuoi processi di deposizione di film sottili.

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Bis(pentamethylcyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Decamethylosmocene)


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Phosphorus(III) chloride, 98+%


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Tungsten carbonyl, 99% (<0.1%-Mo)


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Bis(cyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Osmocene)


Ref: 08-76-0150

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250mgFuori produzioneRichiedi informazioni
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Chromium carbonyl, sublimed, 99%


Ref: 08-24-0180

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500gFuori produzioneRichiedi informazioni
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Tungsten carbonyl, 99% (99.9+%-W) sublimed


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Osmium carbonyl, 99%


Ref: 08-76-2000

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Chromium carbonyl, 98+%


Ref: 08-24-0183

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Nickel carbonyl


Ref: 08-28-1150

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