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Composti e materiali di consumo per la deposizione di pellicola sottile (CVD, ALD)
In questa categoria troverai una varietà di composti e materiali di consumo appositamente progettati per tecniche di deposizione di film sottili come la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione a strati atomici (ALD). Questi materiali ad alta purezza sono essenziali per creare film sottili precisi e uniformi nella produzione di semiconduttori, nel fotovoltaico e nei rivestimenti avanzati. Presso CymitQuimica, offriamo una selezione completa di composti e materiali di consumo di alta qualità per supportare i tuoi processi di deposizione di film sottili.
Sottocategorie di "Composti e materiali di consumo per la deposizione di pellicola sottile (CVD, ALD)"
Prodotti di "Composti e materiali di consumo per la deposizione di pellicola sottile (CVD, ALD)"
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Pentakis(dimethylamino)niobium(V), 99%
Ref: 08-41-5300
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Dimethyl(acetylacetonate)gold(III), 98% (99.9%-Au)
Ref: 08-79-1500
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Trimethylsilyl perrhenate, 98% (99.999%-Re) PURATREM
Ref: 08-75-4200
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Ref: 08-98-0271
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Niobium(V) chloride (99+%-Nb)
Ref: 08-93-4126
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Niobium(V) ethoxide (99.9+%-Nb)
Ref: 08-93-4104
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Ref: 08-96-4149
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Suba-Seal #57 (fits female 29/42 joint)
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Ref: 08-96-4290
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Osmium(VIII) oxide (99.95+%-Os)
Ref: 08-76-2950
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Ref: 08-98-0276
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Bis(pentamethylcyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Decamethylosmocene)
Ref: 08-76-0200
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N,N'-Di-t-butyl-2,3-diaminobutane, 98%
Ref: 08-07-0385
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Bis(pentamethylcyclopentadienyl)dimethylzirconium(IV), 99%
Ref: 08-40-1054
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Osmium carbonyl, 99%
Ref: 08-76-2000
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Bis(cyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Osmocene)
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