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COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE
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COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE

CAS: 13395-16-9

Rif. 3H-AKC260

10kgPrezzo su richiesta
Consegna stimata in Stati Uniti, il Lunedì 13 Gennaio 2025

Informazioni sul prodotto

Nome:
COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE
Sinonimi:
  • (2Z)-4-oxopent-2-en-2-olate
  • (3Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one-copper (2:1)
  • (SP-4-1)-Bis(2,4-pentanedionato-κO<sup>2</sup>,κO<sup>4</sup>)copper
  • 2,4-Pentanedione, Copper(2+) Salt
  • 2,4-Pentanedione, Copper(2+) Salt (1:1)
  • 4-Oxopent-2-en-2-olate de cuivre(II)
  • 4-oxopent-2-en-2-olato de cobre(II)
  • 4-oxopent-2-ene-2-olate de cuivre(II)
  • Acetylacetonate, Copper (Ii)
  • Bis(2,4-pentanedionato)copper
  • Vedi altri sinonimi
  • Bis(2,4-pentanedionato)copper(II)
  • Bis(acetylacetonato)copper
  • Bis(acetylacetonato)copper(II)
  • Bis(acetylacetone)copper
  • Cd 9
  • Copper acetylacetonate
  • Copper bis(2,4-pentanedionate)
  • Copper bis(acetylacetonate)
  • Copper bis(acetylacetone)
  • Copper diacetylacetonate
  • Copper(2+) bis(acetylacetonate)
  • Copper(II) bis(2,4-pentanedionate)
  • Copper(II)-2,4-pentanedionate
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-O,O')-, (SP-4-1)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-κO,κO')-, (SP-4-1)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-κO2,κO4)-, (SP-4-1)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-κO<sup>2</sup>,κO<sup>4</sup>)-, (SP-4-1)-
  • Copperacetylacetonate
  • Copperpentanedionate
  • Cupric acetylacetonate
  • Cupric bis(2,4-pentanedionate)
  • Nacem Copper
  • copper(II) 4-oxopent-2-en-2-olate
  • kupfer(II)-4-oxopent-2-en-2-olat
  • (SP-4-1)-Bis(2,4-pentanedionato-κO2,κO4)copper
  • Copper(II)acetylacetonate
Descrizione:

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Copper (II) 2,4-pentanedionate; Cupric acetylacetonate
Color: pale blueMetal content: 2.8-24.5% CuVapor pressure, 100 °C: 0.001 mmVapor pressure, 163 °C': 0.1 mmSolubility, dimethylsulfoxide: 4.4 g/LSolubility, toluene: 0.4 g/LSolubility, water: 0.2 g/LStability constant, pKa dioxane/water: 9.7Catalyst for the reduction of nitro-aromatics NaBH4Catalyst for hydrogenation of unsaturated fatsCatalyst for flexible urethanesExcimer laser induces deposition of copperMetal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) generates copper oxide filmsForms ferromagnetic chains on photolysis with diazodi-4-pyridylmethane

Avviso:
I nostri prodotti sono destinati esclusivamente ad uso di laboratorio. Per qualsiasi altro utilizzo, vi preghiamo di contattarci.
Marchio:
Gelest
Conservazione lunga:
Note:

Proprietà chimiche

Peso molecolare:
261.76
Formula:
C10H14CuO4
Colore/Forma:
Blue Solid
MDL:
Punto di fusione:
Punto di ebollizione:
Punto di infiammabilità:
Densità:
Concentrazione:
EINECS:
Merck:
Codice SA:

Informazioni sui pericoli

Numero ONU:
EQ:
Classe:
Indicazioni di pericolo:
Consigli di prudenza:
Vietato trasportare in aereo:
Informazioni sui pericoli:
Gruppo di imballaggio:
LQ:

Richiesta tecnica su: 3H-AKC260 COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE

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