CAS 1066-77-9

TETRAKIS(DIMETILAMINO)ESTANHO

Descrição:

TETRAKIS(DIMETILAMINO)ESTANHO, com o número CAS 1066-77-9, é um composto organotínico caracterizado por seu átomo de estanho tetravalente ligado a quatro grupos dimetilamina. Este composto geralmente aparece como um líquido incolor a amarelo pálido e é conhecido por sua volatilidade relativamente baixa e alta reatividade. É solúvel em solventes orgânicos, tornando-o útil em várias aplicações químicas. TETRAKIS(DIMETILAMINO)ESTANHO é utilizado principalmente no campo da química organometálica e como precursor na síntese de materiais à base de estanho, particularmente na produção de filmes finos e revestimentos. Sua estrutura química confere propriedades únicas, incluindo potencial atividade catalítica e a capacidade de formar complexos com outros ligantes. No entanto, é importante manusear este composto com cuidado devido à sua toxicidade e potencial impacto ambiental, uma vez que os compostos organotínicos podem apresentar efeitos nocivos à vida aquática e aos ecossistemas. Medidas de segurança adequadas e regulamentos devem ser seguidos ao trabalhar com esta substância em ambientes laboratoriais ou industriais.

Fórmula: C₈H₂₄N₄Sn

InChI: InChI=1/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

SMILES: C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Sn]

Sinónimos:

• Octamethylstannanetetraamine
• Tin (Iv) Dimethylamide
• Tetrakis-(Dimethylamino-)-Stannane
• Tetrakis(dimethylamine)tin
• Tetrakis(dimethylamido)tin(IV)
• Tin(4+) Tetrakis(Dimethylazanide)

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

CAS: 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM

Fórmula: SnN(CH₃)₂

Pureza: (99.99%-Sn)

Cor e Forma: colorless to pale-yellow liq.

Peso molecular: 295.01

Ref: 08-50-1815

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)TIN

CAS: 1066-77-9

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tetrakis(dimethylamino)tin; Octamethylstannanetetraamine; Tin IV dimethylamide
Reacts with tris(aminoalkyl)amines, yielding azastannatranes

Fórmula: C₈H₂₄N₄Sn

Cor e Forma: Pale Yellow Liquid

Peso molecular: 294.99

Ref: 3H-SNT7350

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS: 1066-77-9

Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM, 50-1815, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Fórmula: SnN(CH₃)₂

Pureza: (99.99% Sn)

Cor e Forma: colorless to pale-yellow liq.

Peso molecular: 295.01

Ref: 08-98-4050