CAS 12055-23-1
:Óxido de háfnio
Descrição:
Óxido de háfnio, também conhecido como hafnia, é um composto químico com a fórmula HfO₂. É um sólido cristalino branco que exibe alta estabilidade térmica e é insolúvel em água. Óxido de háfnio tem um alto ponto de fusão e é conhecido por suas excelentes propriedades dielétricas, tornando-o valioso na indústria eletrônica, particularmente na produção de capacitores e como dielétrico de porta em transistores. O composto também é caracterizado por seu alto índice de refração e é utilizado em revestimentos ópticos. Óxido de háfnio pode existir em diferentes formas cristalinas, incluindo fases monoclínicas, tetragonais e cúbicas, sendo a fase tetragonal estável em altas temperaturas. Além disso, a hafnia é quimicamente resistente e pode suportar ambientes hostis, o que a torna adequada para aplicações em reatores nucleares e como revestimento protetor. Suas propriedades únicas também a tornam uma candidata para uso em materiais avançados e nanotecnologia. No geral, Óxido de háfnio é um material versátil com aplicações industriais e tecnológicas significativas.
Fórmula:HfO2
InChI:InChI=1S/Hf.2O
Chave InChI:InChIKey=CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[Hf](=O)=O
Sinónimos:- Dioxido De Hafnio
- Dioxohafnium
- Dioxyde d'hafnium
- Hafnia
- Hafnia (HfO2)
- Hafnia (HfO<sub>2</sub>)
- Hafnium (IV)�oxide (99.998%-Hf) PURATREM
- Hafnium dioxide
- Hafnium dioxide (HfO2)
- Hafnium dioxide (HfO<sub>2</sub>)
- Hafnium oxide
- Hafnium oxide (HfO2)
- Hafnium oxide (HfO<sub>2</sub>)
- Hafnium(+4) Cation
- Hafniumdioxid
- Hafniumoxideoffwhitepowder
- Hafniumoxidesinteredlumps
- Hafnotrast
- Hf 05
- Hf 05 (oxide)
- Nsc 158931
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Hafnium(IV) oxide, 99.95%, (metals basis excluding Zr), Zr typically <0.5%
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is used in optical coatings and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. It is used as a gate insulator in field-effect transistors due to its high dielectric constant. It plays an important role as a possible candidate for resistive-switching memories, as a refractory materi</p>Fórmula:HfO2Pureza:0.5%Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, 99.9% (metals basis excluding Zr), Zr <0.5%
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is an intermediate. Hafnia is used in optical coatings, and as a high- dielectric in DRAM capacitors and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and lab</p>Fórmula:HfO2Pureza:0.5%Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, 99% (metals basis excluding Zr), Zr <1.5%
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is used in optical coatings and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. It is used as a gate insulator in field-effect transistors due to its high dielectric constant. It plays an important role as a possible candidate for resistive-switching memories, as a refractory materi</p>Fórmula:HfO2Pureza:1.5%Cor e Forma:White, PowderPeso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, tech.
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is used in optical coatings and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. It is used as a gate insulator in field-effect transistors due to its high dielectric constant. It plays an important role as a possible candidate for resistive-switching memories, as a refractory materi</p>Fórmula:HfO2Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, Spectrographic Grade, 99.9% (metals basis excluding Zr), Zr typically <80ppm
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is used in optical coatings and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. It is used as a gate insulator in field-effect transistors due to its high dielectric constant. It plays an important role as a possible candidate for resistive-switching memories, as a refractory materi</p>Fórmula:HfO2Pureza:99.9%Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, 99.995%, (metals basis excluding Zr), Zr typically <0.2%
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is used in optical coatings and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. It is used as a gate insulator in field-effect transistors due to its high dielectric constant. It plays an important role as a possible candidate for resistive-switching memories, as a refractory materi</p>Fórmula:HfO2Pureza:0.2%Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, 99.99% (metals basis excluding Zr), Zr <100ppm
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide is used as Intermediates, Paint additives and coating additives, metal Products. And it is also used in optical coatings, as a refractory material in the insulation of such devices as thermocouples. This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesa</p>Fórmula:HfO2Pureza:99.99%Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide, 98%
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide, 98%</p>Fórmula:HfO2Pureza:98%Cor e Forma:off-white pwdr.Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
CAS:<p>Hafnium(IV) oxide (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM</p>Fórmula:HfO2Pureza:(99.995%-Hf, <0.15% Zr)Cor e Forma:off-white pwdr.Peso molecular:210.49Hafnium(IV) oxide
CAS:Hafnium(IV) oxidePureza:99.99%,-200meshCor e Forma:Off-White PowderPeso molecular:210.49g/molHafnium(IV) oxide nanopowder, 70nm, 99.9%
CAS:Fórmula:HfO2Pureza:≥ 99.9%Cor e Forma:White to tan powder or crystalPeso molecular:210.49Hafnium oxide, 99+% (contains max. 4.5% Zr)
CAS:Fórmula:HfO2Pureza:≥ 99.0% (sum of Hf and Zr oxides after calcination)Cor e Forma:White powderPeso molecular:210.49Hafnium oxide, 99+% (contains max. 0.5% Zr)
CAS:Fórmula:HfO2Pureza:≥ 99.0%Cor e Forma:White to off-white powder or crystalsPeso molecular:210.49Hafnium oxide, 99.9%
CAS:Fórmula:HfO2Pureza:≥ 99.9% (excluding Zr)Cor e Forma:White to off-white powderPeso molecular:210.49Hafnium oxide, 99.9%
CAS:Fórmula:HfO2Pureza:≥ 99.9% (excluding Zr)Cor e Forma:White powderPeso molecular:210.49Ref: IN-DA00HFI1
Produto descontinuado
