Nickel silicide (NiSi2) is a binary compound formed from nickel and silicon, characterized by its metallic properties and semiconductor behavior. It typically appears as a gray or black solid and is known for its high thermal stability and good electrical conductivity, making it valuable in electronic applications, particularly in the fabrication of integrated circuits and as a contact material in semiconductor devices. NiSi2 has a relatively high melting point and exhibits a crystalline structure, which contributes to its robustness under various conditions. The compound is also notable for its ability to form at the interface of nickel and silicon during thermal processes, leading to the formation of a silicide layer that enhances the performance of electronic components. Additionally, nickel silicide can be synthesized through various methods, including solid-state reactions and chemical vapor deposition. Its properties make it an important material in the field of microelectronics and nanotechnology, where precise control over electrical characteristics is essential.

Nickel silicide (NiSi2)

Siliceto de níquel (NiSi2) é um composto binário formado por níquel e silício, caracterizado por suas propriedades metálicas e comportamento semicondutor. Normalmente aparece como um sólido cinza ou preto e é conhecido por sua alta estabilidade térmica e boa condutividade elétrica, tornando-o valioso em aplicações eletrônicas, particularmente na fabricação de circuitos integrados e como material de contato em dispositivos semicondutores. NiSi2 tem um ponto de fusão relativamente alto e exibe uma estrutura cristalina, o que contribui para sua robustez sob várias condições. O composto também é notável por sua capacidade de se formar na interface de níquel e silício durante processos térmicos, levando à formação de uma camada de siliciureto que melhora o desempenho dos componentes eletrônicos. Além disso, o siliciureto de níquel pode ser sintetizado por vários métodos, incluindo reações em estado sólido e deposição de vapor químico. Suas propriedades o tornam um material importante no campo da microeletrônica e nanotecnologia, onde o controle preciso sobre as características elétricas é essencial.

12201-89-7: Siliceto de níquel (NiSi2) é um composto binário formado por níquel e silício, caracterizado por suas propriedades metálicas e comportamento semicondutor. Normalmente aparece como um sólido cinza ou preto e é conhecido por sua alta estabilidade térmica e boa condutividade elétrica, tornando-o valioso em aplicações eletrônicas, particularmente na fabricação de circuitos integrados e como material de contato em dispositivos semicondutores. NiSi2 tem um ponto de fusão relativamente alto e exibe uma estrutura cristalina, o que contribui para sua robustez sob várias condições. O composto também é notável por sua capacidade de se formar na interface de níquel e silício durante processos térmicos, levando à formação de uma camada de siliciureto que melhora o desempenho dos componentes eletrônicos. Além disso, o siliciureto de níquel pode ser sintetizado por vários métodos, incluindo reações em estado sólido e deposição de vapor químico. Suas propriedades o tornam um material importante no campo da microeletrônica e nanotecnologia, onde o controle preciso sobre as características elétricas é essencial.

CAS 12201-89-7

Siliceto de níquel (NiSi2)

Nickel silicide, 99%

Ref: 7W-GX5979