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CAS 13597-87-0

:

trisilano, 2-silil-

Descrição:
trisilano, 2-silil- é um composto químico caracterizado por sua estrutura à base de silício, contendo especificamente três átomos de silício em sua espinha dorsal. Faz parte da família dos silanos, que são compostos compostos de silício e hidrogênio. A presença de grupos silyl indica que possui substituintes ligados aos átomos de silício, o que pode influenciar sua reatividade e propriedades. Os compostos de trisilano são geralmente conhecidos por sua volatilidade e podem ser usados em várias aplicações, incluindo como precursores na síntese de materiais à base de silício e na indústria de semicondutores. Eles podem exibir propriedades únicas, como baixa viscosidade e a capacidade de formar ligações siloxano após hidrólise. Além disso, os compostos de trisilano podem participar de reações típicas da química organossilícica, incluindo hidrossililação e polimerização. Considerações de segurança são importantes ao manusear tais substâncias, pois podem ser inflamáveis e podem representar riscos à saúde se inaladas ou ingeridas. No geral, trisilano, 2-silil- representa uma classe versátil de compostos com relevância industrial significativa.
Fórmula:H10Si4
InChI:InChI=1/H10Si4/c1-4(2)3/h4H,1-3H3
Sinónimos:
  • 2-Silyltrisilane
  • ISOTETRASILANE
  • Trisilane, 2-silyl- (7CI,9CI)
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  • ISOTETRASILANE
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    ISOTETRASILANE

    CAS:
    <p>Volatile Higher Silane<br>Volatile higher silanes are low temperature, high deposition rate precursors. By appropriate selection of precursor and deposition conditions, silicon deposition can be shifted from amorphous hydrogenated silicon toward microcrystalline silicon structures. As the number of silicon atoms increases beyond two, electrons are capable of sigma–sigma bond conjugation. The dissociative adsorption of two of the three hydrogen atoms on terminal silicon atoms has a lower energy barrier.<br>Isotetrasilane; (Trisilyl)silane; 2-Silyltrisilane<br>PYROPHORICAIR TRANSPORT FORBIDDEN?Hvap: 32.5 kJ/molPrecursor for low temp. epitaxy of doped crystalline siliconEmployed in low temperature CVD of amorphous silicon<br></p>
    Fórmula:H10Si4
    Pureza:98%
    Cor e Forma:Colourless Liquid
    Peso molecular:122.42

    Ref: 3H-SII6463.4

    5g
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    Produto descontinuado