Tantalum hydride (TaH) is a chemical compound formed between tantalum and hydrogen. It typically appears as a solid and is characterized by its metallic properties, which include high density and hardness. Tantalum hydride is known for its stability and resistance to oxidation, making it suitable for high-temperature applications. The compound can be synthesized through various methods, including the reaction of tantalum with hydrogen gas at elevated temperatures. Tantalum hydride exhibits interesting electronic properties, which can be attributed to the presence of tantalum's d-electrons. It is often studied for its potential applications in materials science, particularly in the development of superconductors and advanced electronic devices. Additionally, TaH can serve as a precursor for the production of tantalum metal and other tantalum-based compounds. However, handling tantalum hydride requires caution, as it can react with moisture and air, leading to the formation of hazardous byproducts. Overall, tantalum hydride is a compound of interest in both academic research and industrial applications due to its unique properties.

Tantalum hydride (TaH)

Hidreto de tântalo (TaH) é um composto químico formado entre tântalo e hidrogênio. Normalmente aparece como um sólido e é caracterizado por suas propriedades metálicas, que incluem alta densidade e dureza. O hidreto de tântalo é conhecido por sua estabilidade e resistência à oxidação, tornando-o adequado para aplicações em altas temperaturas. O composto pode ser sintetizado por vários métodos, incluindo a reação do tântalo com gás hidrogênio em temperaturas elevadas. O hidreto de tântalo exibe propriedades eletrônicas interessantes, que podem ser atribuídas à presença dos elétrons d do tântalo. É frequentemente estudado por suas potenciais aplicações em ciência dos materiais, particularmente no desenvolvimento de supercondutores e dispositivos eletrônicos avançados. Além disso, TaH pode servir como precursor para a produção de metal de tântalo e outros compostos à base de tântalo. No entanto, o manuseio do hidreto de tântalo requer cautela, pois pode reagir com a umidade e o ar, levando à formação de subprodutos perigosos. No geral, o hidreto de tântalo é um composto de interesse tanto na pesquisa acadêmica quanto em aplicações industriais devido às suas propriedades únicas.

13981-95-8: Hidreto de tântalo (TaH) é um composto químico formado entre tântalo e hidrogênio. Normalmente aparece como um sólido e é caracterizado por suas propriedades metálicas, que incluem alta densidade e dureza. O hidreto de tântalo é conhecido por sua estabilidade e resistência à oxidação, tornando-o adequado para aplicações em altas temperaturas. O composto pode ser sintetizado por vários métodos, incluindo a reação do tântalo com gás hidrogênio em temperaturas elevadas. O hidreto de tântalo exibe propriedades eletrônicas interessantes, que podem ser atribuídas à presença dos elétrons d do tântalo. É frequentemente estudado por suas potenciais aplicações em ciência dos materiais, particularmente no desenvolvimento de supercondutores e dispositivos eletrônicos avançados. Além disso, TaH pode servir como precursor para a produção de metal de tântalo e outros compostos à base de tântalo. No entanto, o manuseio do hidreto de tântalo requer cautela, pois pode reagir com a umidade e o ar, levando à formação de subprodutos perigosos. No geral, o hidreto de tântalo é um composto de interesse tanto na pesquisa acadêmica quanto em aplicações industriais devido às suas propriedades únicas.

CAS 13981-95-8

Hidreto de tântalo (TaH)

Tantalum hydride

Ref: 54-IN3415