CAS 15112-89-7

N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexametilsilanotriamina

Descrição:

N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexametilsilanotriamina, com o número CAS 15112-89-7, é um composto organossilícico caracterizado por sua estrutura única que inclui um átomo de silício ligado a três átomos de nitrogênio, cada um dos quais está ainda ligado a grupos metila. Este composto é tipicamente um líquido incolor a amarelo pálido e é conhecido por sua alta estabilidade térmica e baixa volatilidade. Apresenta propriedades como solubilidade em solventes orgânicos e potencial reatividade com vários eletrófilos devido à presença de átomos de nitrogênio. Hexametilsilantriamina é frequentemente utilizada na síntese de polímeros de silicone e como um ligante em química de coordenação. Sua capacidade de formar complexos estáveis com metais torna-o valioso em catálise e ciência dos materiais. Além disso, pode ter aplicações no campo da nanotecnologia e como precursor na produção de materiais à base de silício. Precauções de segurança devem ser observadas ao manusear este composto, pois pode representar riscos à saúde se inalado ou ingerido.

Fórmula: C₆H₁₉N₃Si

InChI: InChI=1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

Chave InChI: InChIKey=TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

SMILES: [SiH](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

Sinónimos:

• Brn 1901643
• Ls 1460
• N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
• Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
• Tri(dimethylamino)silane
• Tris(Dimethylamino)Silyl
• [Bis(dimethylamino)silyl]dimethylamine
• Tris(dimethylamino)silane

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM

CAS: 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM

Fórmula: (CH₃)₂NSiH

Pureza: (99.999%-Si)

Cor e Forma: colorless to light yellow liq.

Peso molecular: 161.32

Ref: 08-14-8750

Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-

CAS: 15112-89-7

Fórmula: C₆H₁₉N₃Si

Pureza: 95%

Cor e Forma: Liquid

Peso molecular: 161.3207

Ref: IN-DA001N41

Tris(dimethylamino)silane

CAS: 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane

Pureza: 99%, 99.999%-Si

Peso molecular: 161.32g/mol

Ref: 54-OR1044195

TRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE

CAS: 15112-89-7

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Tris(dimethylamino)silane; Tris(dimethylamido)silylhydride; N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine
AIR TRANSPORT FORBIDDENVapor pressure, 4 °C: 1 6 mmHydrosilylates olefins in presence of Rh2Cl2(CO)4Reacts with ammonia to form silicon nitride prepolymersEmployed in low pressure CVD of silicon nitride

Fórmula: C₆H₁₉N₃Si

Pureza: 97%

Cor e Forma: Straw Liquid

Peso molecular: 161.32

Ref: 3H-SIT8714.0

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

CAS: 15112-89-7

Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD

Fórmula: (CH₃)₂NSiH

Pureza: (99.999%-Si)

Cor e Forma: colorless to light yellow liq.

Peso molecular: 161.32

Ref: 08-98-4035