CAS 594-27-4
:Tetrametilestanho
Descrição:
Tetrametilestanho, com o número CAS 594-27-4, é um composto organoestânico caracterizado por seus quatro grupos metila ligados a um átomo de estanho. Aparece como um líquido incolor a amarelo pálido com um odor distintivo. Este composto é conhecido por sua alta volatilidade e baixa solubilidade em água, sendo mais solúvel em solventes orgânicos. Tetrametilestanho é utilizado principalmente na síntese orgânica e como um reagente em várias reações químicas. Apresenta toxicidade, particularmente para organismos aquáticos, e levanta preocupações ambientais devido ao seu potencial de bioacumulação. O composto pode sofrer hidrólise na presença de umidade, levando à formação de óxidos de estanho e outros subprodutos. Precauções de segurança são essenciais ao manusear Tetrametilestanho, pois pode causar irritação na pele e nas vias respiratórias. No geral, embora Tetrametilestanho tenha aplicações úteis na química, seus impactos ambientais e à saúde exigem uma gestão e regulação cuidadosas.
Fórmula:C4H12Sn
InChI:InChI=1S/4CH3.Sn/h4*1H3;
Chave InChI:InChIKey=VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N
SMILES:[Sn](C)(C)(C)C
Sinónimos:- Tetramethyl tin
- Tetramethyletain
- Tetramethylstannan
- Tetramethylstannane
- Tetramethyltin
- Tetramethylzinn
- Tetrametilestano
- Tin, Tetramethyl-
- AI3-28458
- 4-04-00-04307 (Beilstein Handbook Reference)
- BRN 3647887
- Tetramethylcin
- Stannane, tetramethyl-
- Tetramethylcin [Czech]
- Ver mais sinónimos
Ordenar por
Pureza (%)
0
100
|
0
|
50
|
90
|
95
|
100
5 produtos.
Tetramethyltin, 98%
CAS:<p>This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and label information may refer to the legacy brand. The original Alfa Aesar product / item code or SKU reference has not changed as a part of the brand transition to Thermo Sci</p>Fórmula:C4H12SnPureza:98%Cor e Forma:Clear colorless, LiquidPeso molecular:178.85TETRAMETHYLTIN
CAS:<p>ALD Material<br>Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.<br>Tetramethyltin; Tetramethylstannane<br>ΔHcomb: 903.5 kcal/molΔHform, gas, 27 °: -13.6 kcal/mol ΔHvap: 6.8 kcal/molSn-Me bond dissociation energy: 227 kJ/molEa, pyrolysis: 41.1 kcal/molVapor pressure, -21 °C: 10 mmVapor pressure, 20 °C: 90 mmAllows synthesis of even numbered alkanesConverts acid chlorides to methyl ketones with benzylchlorobis(triphenyl phosphine)palladiumForms aryl methyl ketones from aryl halides and CO in the presence of dicarbonylbis(triphenylphosphine)nickelFor CVD of tin oxide transparent conductive electrodes on glass for photovoltaics and sensorsPyrolyzed in vacuum to tin at 600-750 °CPyrolyzed oxidatively to SnO at 350-600 °CForms transparent conductive oxides for photovoltaics by Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)Higher purity grade available, SNT7560.1<br></p>Fórmula:C4H12SnPureza:97%Cor e Forma:Colourless LiquidPeso molecular:178.83Tetramethylstannane
CAS:<p>Applications Tetramethylstannane is used in preparation of Biphenyl Pyrazines as PD-1/PD-L1 inhibitors for treating cancer.<br>References Aktoudianakis, E., et al.: PCT Int. Appl., (2019);<br></p>Fórmula:C4H12SnCor e Forma:Colourless OilPeso molecular:178.848




