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Compostos e Consumíveis para Deposição de Filme Fino (CVD, ALD)

Nesta categoria, você encontrará uma variedade de compostos e consumíveis especificamente projetados para técnicas de deposição de filmes finos, como Deposição Química de Vapor (CVD) e Deposição de Camada Atômica (ALD). Esses materiais de alta pureza são essenciais para criar filmes finos precisos e uniformes na fabricação de semicondutores, fotovoltaicos e revestimentos avançados. Na CymitQuimica, oferecemos uma seleção abrangente de compostos e consumíveis de alta qualidade para apoiar seus processos de deposição de filmes finos.

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Bis(pentamethylcyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Decamethylosmocene)


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Phosphorus(III) chloride, 98+%


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Tungsten carbonyl, 99% (<0.1%-Mo)


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Bis(cyclopentadienyl)osmium, 99% (99.9%-Os) (Osmocene)


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Chromium carbonyl, sublimed, 99%


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Tungsten carbonyl, 99% (99.9+%-W) sublimed


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Osmium carbonyl, 99%


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Chromium carbonyl, 98+%


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Nickel carbonyl


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