Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
CAS:
Ref. 02-043039
1ea
A consultar
Informação sobre produto
Nome:Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
Sinónimos:
- copper
- kupfer
- cobre
- cuivre
- copper atom
- cuprum
- copper(0)
- Cun
Marca:Alfa Aesar By Thermo Fisher Scientific
Descrição:Sputtering targets commonly used to coat electronic components and electronic instruments. Due to its high electrical conductivity, copper is becoming increasingly popular for use in large-format, high-resolution TFT-LCD television sets. Copper is used as the electrode layer in thin-film transistors
Aviso:Os nossos productos estão destinados exclusivamente para uso em laboratório. Para qualquer outra aplicação, por favor entre em contacto.
Propriedades químicas
Peso molecular:63.55
Fórmula:Cu
Pureza:99.995%
Cor/forma:Sputtering target, 50.8mm (2.0in) diameter x 6.35mm (0.250in) thick.
Chave InChI:RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N
Consulta técnica sobre Copper sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)
Por favor, utilize o carrinho para solicitar um orçamento ou uma encomenda
Por favor, utilize o carrinho para solicitar um orçamento ou uma encomenda. Se desejar solicitar um orçamento ou fazer uma encomenda, por favor, adicione os produtos ao seu carrinho e depois solicite um orçamento ou encomenda a partir do carrinho. É mais rápido, mais barato e poderá beneficiar-se dos descontos e outras vantagens disponíveis.