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COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE
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COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE

CAS: 13395-16-9

Ref. 3H-AKC260

10kgA consultar
Entrega estimada em Estados Unidos, Segunda-feira 13 de Janeiro de 2025

Informação sobre produto

Nome:
COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE
Sinónimos:
  • (2Z)-4-oxopent-2-en-2-olate
  • (3Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one-copper (2:1)
  • (SP-4-1)-Bis(2,4-pentanedionato-κO<sup>2</sup>,κO<sup>4</sup>)copper
  • 2,4-Pentanedione, Copper(2+) Salt
  • 2,4-Pentanedione, Copper(2+) Salt (1:1)
  • 4-Oxopent-2-en-2-olate de cuivre(II)
  • 4-oxopent-2-en-2-olato de cobre(II)
  • 4-oxopent-2-ene-2-olate de cuivre(II)
  • Acetylacetonate, Copper (Ii)
  • Bis(2,4-pentanedionato)copper
  • Ver mais sinónimos
  • Bis(2,4-pentanedionato)copper(II)
  • Bis(acetylacetonato)copper
  • Bis(acetylacetonato)copper(II)
  • Bis(acetylacetone)copper
  • Cd 9
  • Copper acetylacetonate
  • Copper bis(2,4-pentanedionate)
  • Copper bis(acetylacetonate)
  • Copper bis(acetylacetone)
  • Copper diacetylacetonate
  • Copper(2+) bis(acetylacetonate)
  • Copper(II) bis(2,4-pentanedionate)
  • Copper(II)-2,4-pentanedionate
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-O,O')-, (SP-4-1)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-κO,κO')-, (SP-4-1)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-κO2,κO4)-, (SP-4-1)-
  • Copper, bis(2,4-pentanedionato-κO<sup>2</sup>,κO<sup>4</sup>)-, (SP-4-1)-
  • Copperacetylacetonate
  • Copperpentanedionate
  • Cupric acetylacetonate
  • Cupric bis(2,4-pentanedionate)
  • Nacem Copper
  • copper(II) 4-oxopent-2-en-2-olate
  • kupfer(II)-4-oxopent-2-en-2-olat
  • (SP-4-1)-Bis(2,4-pentanedionato-κO2,κO4)copper
  • Copper(II)acetylacetonate
Descrição:

ALD Material
Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
Copper (II) 2,4-pentanedionate; Cupric acetylacetonate
Color: pale blueMetal content: 2.8-24.5% CuVapor pressure, 100 °C: 0.001 mmVapor pressure, 163 °C': 0.1 mmSolubility, dimethylsulfoxide: 4.4 g/LSolubility, toluene: 0.4 g/LSolubility, water: 0.2 g/LStability constant, pKa dioxane/water: 9.7Catalyst for the reduction of nitro-aromatics NaBH4Catalyst for hydrogenation of unsaturated fatsCatalyst for flexible urethanesExcimer laser induces deposition of copperMetal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) generates copper oxide filmsForms ferromagnetic chains on photolysis with diazodi-4-pyridylmethane

Aviso:
Os nossos productos estão destinados exclusivamente para uso em laboratório. Para qualquer outra aplicação, por favor entre em contacto.
Marca:
Gelest
Armazenamento a longo prazo:
Notas:

Propriedades químicas

Peso molecular:
261.76
Fórmula:
C10H14CuO4
Cor/forma:
Blue Solid
MDL:
Ponto de fusão:
Ponto de ebulição:
Ponto de inflamação:
Densidade:
Concentração:
EINECS:
Merck:
Código HS:

Informação sobre riscos

Número ONU:
EQ:
Classe:
Frases H:
Frases P:
Proibido de voar:
Informação sobre riscos:
Grupo de Embalagem:
LQ:

Consulta técnica sobre: 3H-AKC260 COPPER(II) 2,4-PENTANEDIONATE

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