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TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)SILANE

Ref. 3H-SIT7276.0

25g
Descontinuado

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TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)SILANE
Gelest

    Informação sobre produto

    Nome:TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)SILANE
    Sinónimos:
    • 4DMAS
    Marca:Gelest
    Descrição:ALD Material
    Atomic layer deposition (ALD) is a chemically self-limiting deposition technique that is based on the sequential use of a gaseous chemical process. A thin film (as fine as -0.1 Å per cycle) results from repeating the deposition sequence as many times as needed to reach a certain thickness. The major characteristic of the films is the resulting conformality and the controlled deposition manner. Precursor selection is key in ALD processes, namely finding molecules which will have enough reactivity to produce the desired films yet are stable enough to be handled and safely delivered to the reaction chamber.
    Tetrakis(dimethylamino)silane; Tetrakis(dimethylamido)silane; Octamethylsilanetetramine; N,N,N',N',N'',N'',N''',N'''-Octamethylsilanetetramine
    Undergoes transamination reactionsReacts with chromophores to form NLO active hybrid organic-inorganics
    Aviso:Os nossos productos estão destinados exclusivamente para uso em laboratório. Para qualquer outra aplicação, por favor entre em contacto.

    Propriedades químicas

    Peso molecular:204.39
    Fórmula:C8H24N4Si
    Pureza:97%
    Cor/forma:Straw Liquid

    Consulta sobre o produto descontinuado: TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)SILANE

    ◻️
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